一、化学沉积钴的磁滞及不归零饱和记彔特征（论文文献综述）
R.D.Fisher,李金堂[1]（1967）在《化学沉积钴的磁滞及不归零饱和记彔特征》文中认为本文讨论了制取厚度从3,000A到56,000A的化学沉积钴带问题。钴带不归零饱和记录特性是镀层厚度的函数。钴带的磁滞特性、表面特性与记录特性已被测出。记录特性的测定是在封闭磁带环传输机构上用交替磁通量反转的方式（1010等等）完成的。记录特性主要依赖于镀层厚度和回线形状。本文还讨论了与记录特性有关的自去磁磁场及记录磁头边缘磁场的作用。钴带的磁滞特性、饱和记录特征及表面特征在相同条件下与商用氧化物磁带作了比较。 磁滞特性,矫顽力,剩余磁通密度,矩形比,不归零饱和记录,运带机构,存贮密度,脉冲宽度,饱和电流,信号,记录磁头边缘磁场（Fringing Field）,自去磁现象,各向异性,化学沉积。
冯书争[2]（2006）在《化学沉积稀土钴基合金薄膜组织和软磁性能的研究》文中研究说明本文研究了化学沉积稀土钴基合金薄膜组织和软磁性能。采用正交实验法设计并实验了化学沉积Co-Ni-B-RE合金工艺的基础配方和最佳配方,制备出试样,考察了合金镀层的组织结构和微观形貌,测定了合金镀层的电化学性能、力学性能及磁学性能。在化学沉积Co-Ni-B合金镀层中添加不同种类稀土元素,探讨其对合金镀层工艺、组织结构和性能的作用机理和影响方式,以期获得综合性能优异的化学沉积钴基合金软磁薄膜。结果表明:镀液中添加稀土元素后,沉积速度得到明显提高,在一定范围内,随着镀液中RE添加量的增加,沉积速度先增大后减小;含有稀土元素镀液的稳定性、镀层的结合力和表面质量有所改善;在水溶液中稀土元素RE可以与钴基合金实现共沉积,且随着镀液中RE浓度的增大,合金镀层中Co、Ni和RE的含量升高,B含量降低;稀土RE的溶入,使合金镀层由非晶态转变成微晶态,晶粒细小,组织致密;添加稀土RE后影响了合金的电化学性能,提高了析出电位,减小了极化度;络合剂和稳定剂改变了化学镀Co-Ni-B-RE溶液的电化学行为,含量适量时使极化度减小,析出电位负移程度减弱,沉积电流增大,提高了沉积速度;稀土元素La、Ce、Dy使合金镀层显微硬度得到改善,在一定范围内,显微硬度随RE含量的增加而先增大后减小,不同稀土的改善效果:Dy最明显,Ce次之,La最弱。稀土元素明显改善了Co-Ni（Fe）-B合金的磁学性能,使得饱和磁化强度Ms、初始磁导率μ0和最大磁导率μmax升高,矫顽力Hc降低。与Co-Fe-B-RE合金相比较,虽Co-Ni-B-RE合金的Ms略小,但其μ0、μmax较大,Mr、Hc较小,综合软磁性能更加优异,且含4f电子的稀土元素比不含4f电子的稀土元素、轻稀土元素比重稀土元素对镀层性能的改善作用更加明显,得到了软磁性能优异的化学沉积Co-Ni-B-RE合金。
张田[3]（2006）在《稀土化学沉积数据库系统设计与应用研究》文中认为在科技日新月异的今天,新材料的发展水平已经成为衡量一个国家高科技水平和综合国力强弱的重要标志,化学镀是在材料领域中发展起来的一类新兴技术,化学沉积钴基合金不需要电流,可在各种基体材料上沉积以及具有优异的磁学性能,但它存在镀液稳定性差、沉积速度和均镀能力不理想等问题。由于稀土元素在电镀、表面化学热处理中能有效提高镀液稳定性、沉积速度和渗速,可以改善材料的可焊性、硬度和耐磨性等功能特性作用,所以展开了稀土元素介入化学沉积钴基合金的尝试。 稀土元素介入化学沉积钴基合金是一个具有良好发展前景的研究方向,为了加速其实际应用的步伐,对在试验过程中获得大量数据,以中文VisualFoxPro6.0为工具,开发出化学沉积数据库系统应用软件。该软件系统分别建立了镀覆工艺、显微硬度和磁学性能三个数据库。以此为基础,开发了六个应用模块,分别为文件管理模块、编辑处理模块、数据管理模块、图片管理模块、打印管理模块、退出系统模块。通过该软件,我们可以方便的管理所有的试验数据。 根据试验数据,用数值分析的方法进行数据处理,拟合出试验数据的近似函数表达式。用正交表对基础配方进行分析,得到最佳配方,并进行相应方差分析;用样条函数和最小二乘法分析镀覆工艺试验数据,绘制出三次样条函数和三次近似多项式的图形,获得化学沉积速度最大时各因素浓度所在的区间。 本文的研究是对试验数据处理的一种探讨,为稀土化学沉积数据库系统的建立探索出一条途径,为获得最佳的钴基合金镀层性能奠定了基础,具有较大的理论和现实意义。
朱云丽[4]（2006）在《化学沉积稀土Co-Fe-B合金薄膜工艺和电化学性能的研究》文中指出本文研究了化学沉积稀土Co-Fe-B合金薄膜工艺和电化学性能。采用正交实验法设计并验证了化学沉积Co-Fe-B合金工艺的基础配方和最佳配方,考察了镀液电化学性能,镀液各组分对合金沉积速度的影响及合金镀层的组织结构和微观形貌;在化学沉积Co-Fe-B工艺最佳配方基础上添加不同种类稀土元素,考察稀土在镀液中对电化学性能及沉积速度的影响,探讨含稀土Co-Fe-B合金的共沉积机制及稀土对合会镀层工艺、组织结构和性能的作用机理和影响方式,以期获得综合性能优异的化学沉积钴基合金软磁薄膜。结果表明:钴铁离子是以共沉积形式进入镀层的,钴铁离子共沉积的极化度比离子单独沉积小:酒石酸钠浓度增加对氧化还原反应有促进作用,乙二胺浓度的增加,对硼氢化钠氧化的促进作用,对络离子还原反应有阻碍作用,亚硒酸浓度较低时,对还原反应有促进作用,较高时,有阻碍作用,对阳极氧化反应正好作用相反;稀土元素在络合剂和基体材料作用下,析出电位正移;稀土加入镀液中,减小了阴极极化曲线的极化度,提高了沉积速度;成分分析显示稀土元素RE能够进入Co-Fe-B合金镀层,与钴、铁原子发生共沉积,且随RE的溶入量增加,Co含量增加,Fe,B含量减少;稀土的加入使非晶镀层有微晶化趋势,且使镀层组织细小,均匀:稀土元素也使合金镀层显微硬度及耐蚀性得到明显改善;Co-Fe-B合金镀层具有很好的软磁性能,添加适量稀土Ce镀层的软磁性能大大提高。
二、化学沉积钴的磁滞及不归零饱和记彔特征（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、化学沉积钴的磁滞及不归零饱和记彔特征（论文提纲范文）
（2）化学沉积稀土钴基合金薄膜组织和软磁性能的研究（论文提纲范文）
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 化学镀软磁薄膜 |
| 1.2.1 化学镀概述 |
| 1.2.2 化学镀发展 |
| 1.2.3 化学镀软磁薄膜 |
| 1.3 钴基磁性薄膜材料 |
| 1.3.1 磁记录钴基薄膜磁性材料 |
| 1.3.2 磁光记录钴基薄膜材料 |
| 1.4 稀土磁性材料及化学镀稀土钴基软磁薄膜 |
| 1.4.1 稀土元素简介 |
| 1.4.2 稀土元素结构与性能特点 |
| 1.4.3 稀土磁性材料的应用及前景 |
| 1.4.4 稀土化学镀软磁薄膜 |
| 1.5 国内外研究概况 |
| 1.6 意义 |
| 1.7 小结 |
| 第二章 实验方法和条件 |
| 2.1 实验方法 |
| 2.1.1 工艺配方 |
| 2.1.2 镀液配制 |
| 2.1.3 试样镀前处理 |
| 2.1.4 镀液沉积速度测定 |
| 2.1.5 电化学特性的考察 |
| 2.1.6 镀层成分的分析 |
| 2.1.7 镀层组织结构的考察 |
| 2.1.8 镀层表面形貌的考察 |
| 2.1.9 镀层力学性能的考察 |
| 2.1.10 镀层磁学性能的考察 |
| 2.2 实验条件 |
| 2.2.1 实验基体材料 |
| 2.2.2 实验仪器和设备 |
| 第三章 化学沉积钴基多元合金工艺 |
| 3.1 化学镀 Co-Ni-B工艺的研究 |
| 3.1.1 化学镀 Co-Ni-B最佳配方的确定 |
| 3.2 稀土元素对化学镀 Co-Ni-B合金镀覆工艺的影响 |
| 3.2.1 稀土元素 La对 Co-Ni-B合金沉积速度的影响 |
| 3.2.2 稀土元素 Ce对 Co-Ni-B合金沉积速度的影响 |
| 3.2.3 不同稀土元素 RE对 Co-Ni-B合金沉积速度的影响 |
| 3.2.4 稀土 Ce对化学沉积不同过渡族合金沉积速度的影响 |
| 3.2.5 稀土元素对镀液稳定性、镀层结合力和表面质量的影响 |
| 3.3 小结 |
| 第四章 化学沉积钴基多元合金体系的电化学性能 |
| 4.1 Co-Ni-B-RE合金的电化学特性 |
| 4.1.1 电极极化原理 |
| 4.1.2 Co-Ni-B-Ce合金的阴极极化曲线 |
| 4.1.3 Co-Ni-B-Ce合金的循环伏安曲线 |
| 4.2 络合剂和稳定剂对化学沉积过程的影响 |
| 4.2.1 络合剂和稳定剂对化学镀液的作用 |
| 4.2.2 电化学极化过程 |
| 4.3.3 络合剂和稳定剂对电化学极化过程的影响 |
| 4.3 Co-Ni-B-RE溶液的电化学特性 |
| 4.3.1 络合物结构 |
| 4.3.2 络合剂对溶液电化学特性的影响 |
| 4.3.3 稳定剂对溶液电化学特性的影响 |
| 4.3.4 稀土元素对溶液电化学特性的影响 |
| 4.3.5 溶液各组分对化学镀 Co-Ni-B-RE合金沉积速度的影响 |
| 4.4 小结 |
| 第五章 化学沉积钴基多元合金的成分、结构和形貌 |
| 5.1 Co-Ni-B-RE合金镀层的成分 |
| 5.2 Co-Ni-B-RE合金镀层的结构 |
| 5.3 Co-Ni-B-RE合金镀层的形貌 |
| 5.3.1 合金镀层表面形貌 |
| 5.3.2 合金镀层的微观形貌 |
| 5.4 小结 |
| 第六章 化学沉积钴基多元合金的性能 |
| 6.1 合金镀层的力学性能 |
| 6.1.1 Co-Ni-B-RE合金的显微硬度 |
| 6.1.2 Co-Ni(Fe)-B-RE合金的显微硬度 |
| 6.2 合金镀层的磁学性能 |
| 6.2.1 Co-Ni-B-Ce合金镀层的磁学性能 |
| 6.2.2 不同稀土 Co-Ni-B-RE合金镀层的磁学性能 |
| 6.2.3 不同稀土含量 Co-Ni-B合金镀层的磁学性能 |
| 6.2.4 不同过渡族金属 Co-Ni(Fe)-B-RE合金镀层的磁学性能 |
| 6.3 小结 |
| 第七章 结论 |
| 参考文献 |
| 撰写及发表论文情况 |
（3）稀土化学沉积数据库系统设计与应用研究（论文提纲范文）
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 课题的来源、研究背景及意义 |
| 1.2.1 课题来源 |
| 1.2.2 项目目的及组成 |
| 1.2.3 本课题研究背景及意义 |
| 1.3 论文各章主要内容 |
| 第二章 稀土元素及钻基合金工艺和性能 |
| 2.1 稀土元素 |
| 2.1.1 稀土元素简介 |
| 2.1.2 稀土元素结构与性能特点 |
| 2.1.3 稀土元素材料的应用前景 |
| 2.2 化学镀 |
| 2.2.1 化学镀概述 |
| 2.2.2 化学镀发展史 |
| 2.2.3 国内外研究概况 |
| 2.3 实验方法 |
| 2.3.1 工艺配方 |
| 2.3.2 镀液配制 |
| 2.3.3 试样镀前处理 |
| 2.3.4 镀液沉积速度测定 |
| 2.3.5 镀层力学性能的考察 |
| 2.3.6 镀层磁学性能的考察 |
| 2.4 实验方法 |
| 2.4.1 实验基体材料 |
| 2.4.2 实验仪器和设备 |
| 2.5 稀土元素对化学沉积钻镍硼合金镀覆工艺的影响 |
| 2.5.1 轻稀土元素镧、铈对沉积速度的影响 |
| 2.5.2 重稀土元素钆、铽、镝、钇对沉积速度的影响 |
| 2.5.3 主盐浓度对沉积速度的影响 |
| 2.5.4 还原剂浓度对沉积速度的影响 |
| 2.5.5 络合剂浓度对沉积速度的影响 |
| 2.5.6 缓冲剂浓度对沉积速度的影响 |
| 2.5.7 其他因素对沉积速度的影响 |
| 2.6 合金镀层的力学性能 |
| 2.6.1 Co-Ni-B-RE 合金的显微硬度 |
| 2.6.2 Co-Ni(Fe)-B-RE 合金的显微硬度 |
| 2.7 合金镀层的磁学性能 |
| 2.7.1 Co-Ni-B-Ce合金镀层的磁学性能 |
| 2.7.2 不同稀土元素 Co-Ni-B-RE合金镀层的磁学性能 |
| 2.7.3 不同稀土含量 Co-Ni-B 合金镀层的磁学性能 |
| 2.8 本章小结 |
| 第三章 稀土化学沉积数据库系统的设计与建立 |
| 3.1 数据库系统 |
| 3.1.1 数据定义及数据管理 |
| 3.1.2 数据库的层次和特点 |
| 3.2 数据库系统的选择 |
| 3.3 数据库系统的设计 |
| 3.3.1 主菜单设计 |
| 3.3.2 子菜单设计 |
| 3.4 数据库系统的建立 |
| 3.4.1 项目管理器的建立 |
| 3.4.2 数据类型的确立 |
| 3.4.3 数据库的内容 |
| 3.4.4 数据输入 |
| 3.4.5 主程序设计 |
| 3.5 系统的安装与运行 |
| 3.5.1 系统环境 |
| 3.5.2 软件系统运行 |
| 3.5.3 软件系统卸载 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 稀土化学沉积镀覆工艺数据建模 |
| 4.1 基础配方正交试验与方差分析 |
| 4.1.1 正交表简介 |
| 4.1.2 正交表分析 |
| 4.1.3 正交试验的方差分析 |
| 4.2 三次样条函数 |
| 4.3 最小二乘法 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 稀土化学沉积基本工艺规律研究 |
| 5.1 镀覆工艺的数据分析 |
| 5.1.1 轻稀土元素浓度对沉积速度的影响 |
| 5.1.2 重稀土元素浓度对沉积速度的影响 |
| 5.1.3 主盐浓度对沉积速度的影响 |
| 5.1.4 还原剂浓度对沉积速度的影响 |
| 5.1.5 缓冲剂浓度对沉积速度的影响 |
| 5.1.6 络合剂浓度对沉积速度的影响 |
| 5.2 钴基合金的的力学性能 |
| 5.3 钴基合金的的磁学性能 |
| 5.3.1 磁滞回线 |
| 5.3.2 磁化曲线 |
| 5.3.3 磁导率曲线 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 论文总结 |
| 6.2 对本课题工作的展望 |
| 附录 多项式最小二乘法算法源程序 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士期间发表的论文 |
（4）化学沉积稀土Co-Fe-B合金薄膜工艺和电化学性能的研究（论文提纲范文）
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 化学镀 |
| 1.2.1 化学镀简介 |
| 1.2.2 化学镀机理简介 |
| 1.2.3 化学镀钴 |
| 1.3 电化学 |
| 1.3.1 电化学简介 |
| 1.3.2 电极过程概述 |
| 1.3.3 电化学方法在化学镀研究中的应用 |
| 1.4 稀土 |
| 1.4.1 稀土简介 |
| 1.4.2 稀土元素结构与性能特点 |
| 1.4.3 稀土元素在磁性材料领域的应用 |
| 1.4.4 稀土化学镀软磁薄膜 |
| 1.5 小结 |
| 第二章 实验材料和方法 |
| 2.1 实验用基体材料 |
| 2.2 实验方法 |
| 2.2.1 正交实验 |
| 2.2.2 镀液的配制 |
| 2.2.3 沉积工艺流程 |
| 2.2.4 沉积速率的测定 |
| 2.2.5 组织结构形貌的分析 |
| 2.2.6 显微硬度的测定 |
| 2.2.7 成分测定 |
| 2.2.8 磁学参数测定 |
| 2.2.9 镀液电化学性能的测试 |
| 2.3 仪器和设备 |
| 第三章 化学沉积Co-Fe-B多元合金工艺及电化学性能 |
| 3.1 化学沉积Co-Fe-B配方的确定 |
| 3.2 化学沉积Co-Fe-B合金镀液组分分析 |
| 3.2.1 主盐 |
| 3.2.2 还原剂 |
| 3.2.3 络合剂 |
| 3.2.4 稳定剂 |
| 3.3 化学沉积Co-Fe-B合金镀液电化学性能分析 |
| 3.3.1 极化曲线分析 |
| 3.3.2 不同主盐对阴极极化曲线影响分析 |
| 3.3.3 络合剂对极化曲线影响分析 |
| 3.3.4 稳定剂对极化曲线影响分析 |
| 3.4 小结 |
| 第四章 稀土元素介入化学沉积Co-Fe-B薄膜工艺及电化学性能 |
| 4.1 稀土Ce介入化学沉积Co-Fe-B薄膜工艺 |
| 4.1.1 稀土Ce加入量的确定 |
| 4.1.2 氯化钴对沉积速度的影响 |
| 4.1.3 硫酸亚铁对沉积速度的影响 |
| 4.1.4 硼氢化纳对沉积速度的影响 |
| 4.1.5 酒石酸钠对沉积速度的影响 |
| 4.1.6 乙二胺对沉积速度的影响 |
| 4.1.7 氯化铵对沉积速度的影响 |
| 4.2 其他稀土元素介入化学沉积Co-Fe-B薄膜沉积工艺 |
| 4.2.1 稀土La与Ce对沉积速度的影响比较 |
| 4.2.2 稀土Dy与Ce对沉积速度的影响比较 |
| 4.3 稀土介入镀液的电化学性质研究 |
| 4.3.1 稀土沉积可行性的研究 |
| 4.3.2 不同含量稀土Ce介入镀液的电化学性质研究 |
| 4.3.3 不同稀土介入镀液的电化学性质研究 |
| 4.4 小结 |
| 第五章 稀土介入化学沉积Co-Fe-B薄膜的组织结构 |
| 5.1 Co-Fe-B-(RE)薄膜的成分分析 |
| 5.2 Co-Fe-B-Ce薄膜的x射线衍射分析 |
| 5.3 Co-Fe-B(RE)薄膜的形貌分析 |
| 5.3.1 合金镀层Co-Fe-B表面形貌 |
| 5.3.2 合金镀层Co-Fe-B(RE)微观形貌 |
| 5.4 小结 |
| 第六章 稀土元素介入化学沉积Co-Fe-B薄膜镀层的功能特性 |
| 6.1 稀土对化学沉积Co-Fe-B薄膜镀层的硬度的影响 |
| 6.2 化学沉积Co-Fe-B(Ce)薄膜镀层的耐腐蚀性能 |
| 6.2.1 金属腐蚀行为简介 |
| 6.2.2 镀层在5％NaOH溶液中的极化曲线 |
| 6.2.3 镀层在5％NaCl溶液中的极化曲线 |
| 6.3 化学沉积Co-Fe-B(RE)薄膜镀层的磁学性能 |
| 6.3.1 磁化曲线分析 |
| 6.3.2 磁滞回线分析 |
| 6.3.3 磁导率曲线分析 |
| 6.4 小结 |
| 第七章 结论 |
| 参考文献 |
| 已发表论文 |
四、化学沉积钴的磁滞及不归零饱和记彔特征（论文参考文献）
- [1]化学沉积钴的磁滞及不归零饱和记彔特征[J]. R.D.Fisher,李金堂. 电子计算机参考资料, 1967(01)
- [2]化学沉积稀土钴基合金薄膜组织和软磁性能的研究[D]. 冯书争. 合肥工业大学, 2006(08)
- [3]稀土化学沉积数据库系统设计与应用研究[D]. 张田. 合肥工业大学, 2006(08)
- [4]化学沉积稀土Co-Fe-B合金薄膜工艺和电化学性能的研究[D]. 朱云丽. 合肥工业大学, 2006(08)