一、“蓝宝石”抛光膏——一种新的有色金属抛光膏（论文文献综述）
长江机器制造厂中心试验室[1]（1968）在《“蓝宝石”抛光膏——一种新的有色金属抛光膏》文中进行了进一步梳理 最近我厂试制成功一种新的有色金属抛光膏。这种抛光膏具有良好的磨削作用,抛光速度也快,而且被抛光物件的表面光洁度很高(最高达▽▽▽▽13级强,一般均在▽▽▽▽11、12级)。当我们看到以后,就想起是否可以把它应用在有色金属金相试样的制备上。毛主席教导我们:"……你要有知识,你就得参加
霍知节[2]（2019）在《话说稀土抛光材料》文中研究表明1先说"抛光材料"1.1抛光材料为何物抛光材料通常是指用于玻璃抛光的结晶状粉末物质[1]。主要用于对物体表面的处理,如对工件的表面进行抛光,使其更加光滑细润。常见的抛光材料有金属氧化物类,如铝（图1）、锡、铁、锆等氧化物;以及一些无机化合物类,如陶土、白垩、硅藻土等;还有如碳酸盐、金刚石（图2）、碳化硅（图3）等;再有就是金属、塑料抛光材料等。
梁振兴[3]（2013）在《新型高强、高耐腐蚀压铸铝合金的研究》文中指出A380（美国ASTM标准）铝合金作为最广泛使用的压铸铝合金在很多的领域有重要的用途,如:汽车、摩托车等。但是由于A380铝合金中较高的含铜量（3.0%4.0%）,形成的富铜相电极电势较高,导致了其在潮湿的环境中耐腐蚀性能较差,限制了A380在工业中的应用。A360（美国ASTM标准）是另一种压铸铝合金,具有较好的耐腐蚀性能,但是由于其较差的力学性能同样限制其在工业中的应用。在前一阶段的研究中,我们在金属型铸造条件下开发出一种高强、高耐腐的铝合金。本课题以A380、A360以及日本牌号铝合金ADC12压铸铝合金为参比合金,研究这种新合金的压铸性能、力学以及耐腐蚀性能。首先研究了新合金在铸造条件下的组织结构和合金的物理性能,包括合金密度、比热容、线膨胀系数、热导率等,为以后新合金在工业上应用提供参考,并为下一步的数值模拟提供数据。使用铸造模拟软件Anycasting和有限差分数值模拟技术,通过改变浇注温度和快压射速度,模拟大三爪这一零件压铸过程中充型和凝固顺序以及温度场分布,预测在充型和凝固过程中可能出现的各种缺陷,进而得出生产的最佳工艺参数。通过X-ray探伤、显微组织分析、力学性能测试等手段对数值模拟的结果进行验证。在压力铸造条件下使用新合金以及参比合金生产了大三爪铸件,通过对比分析铸件表面质量评估合金的铸造性能;通过对比分析金相组织和拉伸性能来评估合金的力学性能;通过浸泡试验测量合金的腐蚀速率,用电化学实验分析合金的腐蚀机理。验证发现新合金不仅有较好的压力铸造性能,而且有着较高的综合力学性能以及较好的耐腐蚀性能。
卢建红[4]（2019）在《基于二元络合剂的化学镀铜与表面自组装技术》文中指出化学镀是指金属离子被还原剂通过自催化或化学还原反应,在基体表面进行镀覆的过程,金属离子以带电荷的离子络合物的形式参与反应。化学镀铜是重要的基础工艺之一,目前以单一络合剂体系为主,动力学可调控空间小,不同程度地存在镀速低、表面粗糙、晶粒大等问题。基于此,本文提出EDTA/THPED二元络合剂体系化学镀铜的思路,通过调节络合剂占比来研究体系的电化学特性及对镀层结构的作用,以优化出一个合适的化学镀铜体系。此外,鲜有关于添加剂对二元络合剂体系的动力学和结构影响的系统性研究,对此本文系统探究了稳定剂、加速剂和表面活性剂等添加剂的沉积特征,在此基础上制备了铜包覆复合材料,并在化学镀铜表面上组装了有机单分子膜以期解决新生铜镀层易氧化腐蚀的问题。主要取得如下结果:（1）系统分析了 EDTA/THPED二元络合剂体系化学镀铜各因子的电极过程、动力学调节机制与镀层结构演变规律。本文提出以混合电位负移值（△Emix）来作为化学沉积的热力学指标,根据体系混合电位的变化趋势将沉积过程分为诱导、过渡和稳定三个反应过程。发现增加THPED占比及Cu2+、OH-、甲醛浓度,都能使△Emix增加,对应的反应电流密度也相应增加,故提升了沉积速率。THPED占比增大,结晶沉积以向上生长的模式为主,使镀层呈（220）晶面择优取向,甲醛浓度增加促进结晶侧向优先生长,使镀层有（111）择优取向,[Cu2+]和[OH-]对沉积层晶面无明显影响。温度升高沉积速率呈抛物线增长,从35℃升到55℃时增长了 34%,晶粒也增大,晶面无明显择优趋势。（2）归纳了 EDTA/THPED二元络合剂体系的动力学关系,总结得到以下反应速率公式:各主要组成对化学沉积的动力学影响程度为:[Cu2+]>[OH-]>[HCHO]>[ligand],沉积反应受铜离子扩散过程的控制。优化出了二元络合剂体系化学镀铜溶液的组成配比及沉积参数。通过设计二元络合剂体系,达到了增大调控沉积反应的目的。（3）研究了添加剂对EDTA/THPED二元络合剂体系化学镀铜沉积过程的影响。三种稳定剂（2,2’-联吡啶、K3Fe（CN）6和K4Fe（CN）6）均使体系的△Emix变小,阴极电流密度下降,降幅与稳定剂浓度有关,在试验条件下,沉积反应是受阴极还原步骤控制,因而镀速降低,并且表现出（220）晶面的择优取向,解释这一现象与稳定剂的定向吸附有关,即优先吸附在（111）和（200）晶面上。稳定剂的稳定性效果与其浓度有关,三者稳定效果依次为:K3Fe（CN）6>K4Fe（CN）6>2,2’-联吡啶。三种稳定剂都有细化晶粒的作用。表面活性剂PEG6000在电极过程和镀层结构演变的作用与稳定剂类似,这与它们在电极表面的吸附阻滞了带电离子的吸附有关。加速剂聚二硫二丙烷磺酸钠（SPS）则使二元络合剂体系的△ Emix增加,沉积反应受到阴极还原步骤的控制,SPS促进了阴极还原反应,因而提高了体系的沉积速率,XRD分析表明加速剂SPS对镀层有（200）晶面择优取向的作用。（4）基于优化的EDTA/HPED二元络合剂体系化学镀铜液,制备了铜包覆润滑减摩和超硬复合材料。测试Cu包覆鳞片石墨和MoS2二种复合润滑减摩材料,发现Cu包覆石墨材料中,随着铜含量增加,导电性增强,电阻率从含铜50%的0.35μΩ.m降至含铜80%的0.072μΩ·m,但磨损增大;在Cu包覆石墨中掺杂Cu-MoS2后,电阻率增至0.13μΩ·m,但磨损率减少了约21%,掺杂后的复合材料导电性与磨损率指标优于纯铜-石墨的最佳点,呈紧密的三维连接的显微结构,有较好的综合性能。采用二元络合剂体系制备的铜-金刚石超硬复合材料,比单一络合剂体系有更好的覆盖率,晶粒更细致平滑。（5）为了解决新制备的化学镀铜层易腐蚀问题,通过脉冲恒电压强化成膜技术,制备了正辛基膦酸和十八烷基硫醇二种自组装单分子膜,测试了自组装单分子膜的电化学和谱学特性,以及润湿性变化规律。结果表明脉冲恒电压强化制备的有机膦酸和烷基硫醇二种自组装膜腐蚀电流分别下降了 90.2%和99.99%,极化阻抗相应增加21和3.1万倍,自组装膜抑制了铜电极腐蚀反应的阳极过程,使得控制步骤由氧的扩散转变为界面电荷转移;FT-IR检测结果证实了样品表面成功组装了有机膦酸和烷基硫醇分子膜,脉冲恒电压强化处理的对应吸收峰相对较大;接触角测试间接印证了二种物质已组装成膜,样品表面的润湿性由亲水性转为疏水性,脉冲恒电压强化处理后二种自组装单分子膜的接触角分别扩长了 40°和54°。表明脉冲恒电压强化使自组装膜有更好抗腐蚀性,自组装膜排列更为致密。
郭锦良[5]（2008）在《铁/蓝宝石直接接触界面的冲击辐射特性与辐射温度的实验研究》文中提出现阶段金属冲击温度的测量方法通常以灰体辐射模型为基础。首先通过测量金属样品/光学窗口界面的光谱辐射亮度来确定界面温度,然后通过热传导模型导出样品卸载温度,再借助等熵方程导出该金属材料的冲击温度。但是,实验者所采用的靶结构和制作方法都各不相同,文献对其技术细节的报道往往比较少,导致人们在冲击实验中所观测到的辐射信号重复性差。实验结果的分散性主要体现在界面辐射“尖峰”信号的幅度和持续时间的不一致,以及在“尖峰”信号特征的解释方面也存在很大分歧。本文采用纯铁块作样品,用蓝宝石作光学窗口,研究铁样品/蓝宝石窗口界面的冲击辐射特性与辐射温度。重点解决样品与窗口之间接触条件对界面辐射的影响。取得了以下技术进步和新的认识:（1）本文首先在铁片的实验室抛光技术方面取得了明显进步。我们利用UNIPOL810精密研磨抛光机,摸索出了一套纯铁片抛光工艺,最终制备出具有较高平整度和光洁度的铁样品表面,并满足了测温实验的要求;（2）改进了机械压靶方法,制备出“无间隙”金属铁/蓝宝石直接接触界面。采用多点式顶压技术,将压力比较均匀地施压于铁样品/蓝宝石窗口接触界面,使铁样品/蓝宝石间的间隙尽可能小。在界面中心直径约10mm范围内,局部间隙小于可见光波长的四分之一,即基本实现了“无间隙”接触。这是获得界面辐射测量结果具有较好重复性的最重要技术环节之一;（3）在实验过程中实现了辐射式高温计原位标定。采用该方法减少了在（?）温过程中由于光纤的几何布局对实验的影响,提高了测温结果的可靠性;（4）在冲击加载条件下,本文得到了一发辐射“尖峰”完全消除的实验（?）号和多发几乎没有“尖峰”的实验信号,且实验的重复性较好,这些数据为建立新的理论模型提供实验依据。
孙玉利[6]（2008）在《冰冻固结磨料化学机械抛光单晶硅片的基础研究》文中进行了进一步梳理随着超大规模集成电路（ULSI）的发展,芯片的集成度越来越高,因此,对于其基底材料硅片的加工要求也越来越高,不仅要求获得纳米级面型精度和亚纳米级表面粗糙度,而且还要保证其表面和亚表面无损伤。而单晶硅属于硬脆材料,在加工过程中极易发生脆性破坏,对获得高质量的表面带来很大困难。本文针对单晶硅片超精密加工中的困难,提出一种采用冰冻固结磨料抛光垫对单晶硅片进行抛光的创新工艺,对单晶硅片脆塑转变机理、冰冻固结磨料抛光垫的制备及其抛光机理与工艺开展深入研究,为该工艺的实用化开展积极探索。本文完成的主要工作和取得的成果如下:1.研究了不同温度下单晶硅片的脆塑转变机理采用维氏硬度计研究了单晶硅片在不同温度下的硬度和裂纹的产生、扩展及特征,分析了温度对单晶硅片脆塑转变机理的影响,研究发现:温度越低,载荷越小,裂纹的形成和扩展越慢;单晶硅片的硬度随载荷的增加而减小,存在“尺寸效应”。2.研究了单晶硅片塑性模态加工临界切深问题利用纳米压痕仪的LFM附件,在室温下对单晶硅片进行了刻划,分析了动态情况下单晶硅片的脆塑转变过程,测得临界载荷和临界划深分别为138.64 mN和54.63 nm,并对Bifnao提出的脆塑转变临界压深公式进行了修正。3.研究了水相体系纳米α-Al2O3、纳米CeO2悬浮液的分散性能在保持分散液的pH值一定的情况下,通过合理选用超声时间、分散剂种类和浓度,探讨了配制稳定的纳米α-Al2O3、纳米CeO2抛光液的最佳工艺条件,为开发性能优良的纳米α-Al2O3、纳米CeO2抛光液提供了理论指导。4.研究了冰冻纳米磨料抛光垫的制备方法和工艺设计制作了冰冻模具,采用梯度降温、分层浇注和分层冷冻法制作了冰冻固结磨料抛光垫,利用热压法加工出了开槽型冰冻固结磨料抛光垫。5.对冰冻固结磨料抛光垫抛光运动轨迹进行了理论分析和仿真,探讨了冰冻抛光垫抛光运动轨迹对硅片表面质量的影响仿真分析了偏心距、冰冻抛光垫与工件的转速比以及磨粒颗粒数等因素对抛光轨迹的影响,得出了相应的影响趋势,为解释单晶硅片表面粗糙度的变化提供了基础。6.对冰冻固结磨料抛光温度场进行了仿真研究建立了冰冻固结磨料抛光温度场有限元分析模型,通过实验验证了模型的可靠性;分析了压力、主轴转速、偏心距、抛光时间和环境温度对抛光区域温度的影响规律,得出了温度分布云图以及冰冻固结磨料抛光垫的平均融化速度,为合理选择抛光环境温度和加工工艺参数提供了理论依据。7.开展了冰冻固结磨料抛光垫低温抛光单晶硅片的工艺研究利用Taguchi法和综合平衡法进行了实验设计,采用自制的冰冻固结磨料抛光垫对单晶硅片进行了抛光实验,分析了各工艺参数（抛光压力、主轴转速、偏心距和抛光时间）对单晶硅片表面粗糙度和去除率的影响,探寻了冰冻固结磨料抛光垫抛光过程的最佳工艺参数,为该工艺的实用化开展了积极探索。8.研究了冰冻固结磨料抛光垫低温抛光单晶硅片的机理在宏观条件下研究了Al2O3、玛瑙对单晶硅摩擦磨损行为的影响,为单晶硅宏观摩擦学性能评价及其摩擦学和微细精密加工研究提供了实验基础;从微观摩擦学的角度,采用冰冻摩擦偶件,选用面-面接触,在低温下研究了摩擦偶件对单晶硅片摩擦磨损行为的影响,揭示了单晶硅片的低温抛光机理。分析认为,冰冻抛光属固结磨料化学机械抛光,简称IFA-CMP。
曹晶晶[7]（2013）在《原位增韧Al2O3陶瓷基复合材料的制备与性能研究》文中研究表明本文以聚丙烯腈预氧化纤维作为先驱纤维，在真空热压烧结过程中制备原位转化碳纤维增韧氧化铝陶瓷基复合材料，研究了复合材料中碳纤维的微观组织结构、增韧机制、碳纤维与基体的界面以及复合材料的综合性能，优化了复合材料的制备工艺。TEM观察发现原位转变生成的碳纤维表层呈现明显的石墨片层结构，碳原子层面的晶面间距约为0.3455nm；在其拉曼谱上1580cm-1和1360cm-1附近观察到天然石墨固有的G线和乱层石墨结构的D线；添加剂的加入显著改善了碳纤维与基体的界面结合，当添加剂含量为3vol.%，先驱纤维含量为20vol.%时，复合材料的抗弯强度为347.88MPa，断裂韧性达8.22MPa·m1/2，其增韧机制主要为纤维拔出、纤维桥联和裂纹偏转。
陈茂开[8]（2012）在《SiC/莫来石复相多孔陶瓷制备与性能研究》文中研究说明碳化硅多孔陶瓷是一种新型功能材料，兼具多孔陶瓷和碳化硅材料的密度低、比表面积大、耐高温、耐磨损、化学性质稳定等优良性能，可以广泛应用于化工、能源、环保、生物、军工等领域。莫来石是Al2O3-SiO2系中唯一稳定的化合物，具有较低的热传导系数和热膨胀系数、高的抗蠕变性和热稳定性。因此，SiC/莫来石复相多孔陶瓷将具有更加广泛的应用前景与广阔的市场。本论文以SiC、高岭土、A12O3为主要原料，采用添加造孔剂的方法制备了SiC/莫来石复相多孔陶瓷，探讨了烧结温度、造孔剂、m高岭土/mA12O3（高岭土与A12O3质量比q）、添加剂、保温时间及成型压力对多孔陶瓷气孔率、体积密度、抗折强度、抗热震与抗氧化等性能的影响，并采用X射线衍射仪（XRD），扫描电子显微镜（SEM）分析表征了样品的物相组成与断面形貌。通过系统的研究，本论文取得如下主要研究结果：（1）探讨了以淀粉、炭黑为造孔剂，比较了不同温度烧结的试样性能，结果表明：当造孔剂淀粉加入量为10wt%，烧成温度为1350℃时，试样气孔率为31.40%，试样经抗热震与抗氧化测试，热震后强度保持率为31.86%，氧化增重率为0.72%。（2）在造孔剂淀粉加入量为10wt%基础上，系统研究了m高岭土/mA12O3对多孔陶瓷性能的影响。实验得出：随着m高岭土/mA12O3比值的增大，试样抗折强度总体呈现先增大后减少的趋势。当比值为1.00时，即Al2O3略高于莫来石的理论组成比例时，试样具有最优良的力学性能，抗折强度为42.50MPa。（3）在造孔剂淀粉加入量为10wt%、m高岭土/mA12O3比值为1.00的基础上，对比研究了MgO﹑Cr2O3﹑Y2O3三种不同添加剂对多孔陶瓷性能的影响；当MgO加入量为2wt%时，试样气孔率为32.84%，体积密度1.864g/cm3，抗折强度为44.58MPa，试样的综合性能最佳。（4）探讨了成型压力、保温时间对多孔陶瓷试样性能的影响。实验优化得出：当成型压力为100MPa，烧结温度为1350℃，保温时间为2h时，获得的SiC/莫来石复相多孔陶瓷试样气孔率为32.84%，抗折强度为44.58MPa，热震后强度保持率为32.30%，氧化增重率为0.57%。
雷贻文[9]（2006）在《激光冲击法合成纳米金刚石的研究》文中认为为了提高激光冲击法合成纳米金刚石的效率,本文首次提出激光照射循环水介质中石墨颗粒合成纳米金刚石的新工艺,并对激光冲击法合成纳米金刚石的工艺和理论进行了研究。采用高分辨透射电镜、扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和显微激光拉曼光谱仪等手段进行分析,发现本实验条件下合成的纳米金刚石颗粒尺寸约为5nm,具有球形单晶体结构或五重孪晶结构。本课题进行了以下研究:（1）从粒度、石墨化程度以及各种原料中六方石墨和菱方石墨的相对含量方面对原料组织结构进行了详细的分析;（2）研究不同激光器对合成纳米金刚石的影响。试验中,以石墨为原料,分别采用Nd:YAG毫秒脉冲激光器、红宝石Q开关纳秒脉冲激光器和CO2连续激光器三种不同模式、不同功率密度激光器,成功地合成了纳米金刚石;（3）根据实验结果和前人的工作基础,认为功率密度≥109 W·cm-2的激光照射石墨悬浮液时,其相变机理为:在石墨颗粒表面产生高温高压高密度的碳等离子体,在随后的冷却过程中形成纳米金刚石;（4）根据透射电镜对纳米金刚石的组织结构分析结果,认为功率密度在105～106W·cm-2范围的激光照射石墨悬浮液时,不能产生等离子体,其相变机理为:石墨颗粒吸收激光能量时快速升温并达到熔融状态,激光脉冲过后,碳液滴迅速冷却,金刚石形核并长大;（4）实验研究发现,纳米金刚石粉末的热稳定性低于石墨和炭黑粉末,在相同温度下,纳米金刚石比石墨和炭黑粉末更容易氧化,因此不能用这种简单的热氧化方法来提纯纳米金刚石;（5）根据实验结果,讨论了不同石墨原料、不同激光对合成纳米金刚石的影响,认为在高功率密度(≥109 W·cm-2)激光情况下,粗颗粒石墨原料对合成纳米金刚石有利;而对功率密度在105～106W·cm-2范围,细颗粒石墨原料对合成纳米金刚石有利;（6）开展理论研究,包括激光与材料相互作用物理学、纳米金刚石颗粒尺寸限制的机制、碳的状态方程以及金刚石临界形核半径的估算等。本课题的主要创新点为:（1）首次提出激光照射循环的石墨悬浮液合成纳米金刚石的新工艺;（2）首次在较低功率密度(105～106W·cm-2)激光用石墨成功合成出纳米金刚石;（3）首次提出了低功率密度激光合成纳米金刚石的转变模型;（4）首次研究不同石墨原料对合成纳米金刚石的影响。
张田[10]（2011）在《基于葵花籽粒结构的仿生抛光垫设计制造及抛光液流场的研究》文中研究指明本文在仿生学的基础上,提出了一种向日葵籽粒结构的仿生抛光垫,该抛光垫的表面是由相互独立的磨料块组成,并制造出类似于葵花籽粒分布形式的抛光垫。在抛光垫上的沟槽可以提高抛光垫的抛光性能,使抛光液沿着顺时针和逆时针的叶列线沟槽流动,有利于流体向四周发散和废屑的排除,同时也有利于仿生盘由中心向径向均匀的供给抛光液,使得化学机械抛光过程中的化学作用和机械作用得到了合理的匹配,解决了化学机械抛光中抛光液流场不均带来的几何误差等问题。本文首先介绍了斐波那契数列在向日葵花盘中的现象,并且阐述了F.R.Yeatts提出了向日葵生长的数学模型,利用F.R.Yeatts方程模拟出了不同植物的发散角,不同的叶序参数k以及不同的籽粒半径所对应籽粒的排列方式。根据模拟结果利用UG软件建立了基于葵花籽粒结构的抛光垫的三维模型。其次提出了固结磨料仿生抛光垫的制作方法,采用丝网印刷的方法制作固结磨料仿生抛光垫,介绍了丝网印刷的基本原理,确定丝网印刷过程中的三要素：网版、刮板、网距。给出制备固结磨料仿生抛光垫的材料和固结磨料仿生抛光垫的制备流程,得到了固结磨料仿生抛光垫的实物。再次本文介绍了液-固两相流的基本理论和计算流体力学的相关知识,对计算流体力学CFD和FLUENT软件做了简要的概述。推导出化学机械抛光抛光液流场运动方程,给出了流场的计算域、网格的划分及模型的边界条件,利用流体力学软件（FLUENT）对抛光液的流动状态进行仿真,并获得了叶序参数对抛光液流动状态的影响规律。最后,通过单晶硅片的抛光实验,研究抛光垫参数、抛光盘转速、抛光液流量及压强对材料去除率的影响,在抛光液中加入荧光素观察在不同抛光盘转速下抛光液在抛光垫上的流动状态和均匀性。
二、“蓝宝石”抛光膏——一种新的有色金属抛光膏（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、“蓝宝石”抛光膏——一种新的有色金属抛光膏（论文提纲范文）
（2）话说稀土抛光材料（论文提纲范文）
| 1 先说“抛光材料” |
| 1.1 抛光材料为何物 |
| 1.2 抛光材料分类及用途 |
| 2 再说稀土抛光材料 |
| 2.1 稀土抛光材料“家族” |
| 2.2 稀土抛光材料的“抛光机理” |
| 2.2.1 稀土氧化铈抛光粉的“抛光机理” |
| 2.2.2 稀土氧化铈抛光液的“抛光机理” |
| 2.3 稀土抛光粉何来 |
| 2.4 稀土抛光材料的“发家史” |
| 2.5 我国稀土抛光材料的崛起 |
| 2.5.1 我国稀土抛光材料的“创业史” |
| 2.5.2 我国稀土抛光材料的“创新史” |
| 3 稀土抛光材料的“新机遇、新挑战” |
（3）新型高强、高耐腐蚀压铸铝合金的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 铸造铝合金 |
| 1.2 压铸铝合金概述 |
| 1.2.1 压铸的特点 |
| 1.2.2 压铸铝合金的应用及发展趋势 |
| 1.3 压铸过程数值模拟技术概述 |
| 1.4 压铸铝合金中的合金元素 |
| 1.4.1 Si |
| 1.4.2 Cu |
| 1.4.3 Zn |
| 1.4.4 Mg |
| 1.4.5 Fe |
| 1.4.6 Mn |
| 1.4.7 RE |
| 1.4.8 Sr |
| 1.5 铝合金的腐蚀机制 |
| 1.5.1 铸造铝合金的腐蚀类型 |
| 1.5.2 影响铝合金腐蚀性能的因素 |
| 1.6 课题研究意义和研究内容 |
| 1.6.1 课题的研究意义 |
| 1.6.2 课题的研究内容 |
| 2 实验方案及分析方法 |
| 2.1 实验方案及技术路线 |
| 2.2 压铸合金的制备 |
| 2.2.1 原材料 |
| 2.2.2 熔炼设备 |
| 2.2.3 熔炼工艺 |
| 2.3 实验分析方法 |
| 2.3.1 X射线探伤 |
| 2.3.2 化学成分分析 |
| 2.3.3 DSC测试 |
| 2.3.4 热导率测量 |
| 2.3.5 线膨胀系数测量 |
| 2.3.6 力学性能测试 |
| 2.3.7 浸泡腐蚀 |
| 2.3.8 电化学性能测试 |
| 2.3.9 显微分析 |
| 3 新型合金的组织结构和物理性能 |
| 3.1 化学成分 |
| 3.2 组织结构 |
| 3.3 密度 |
| 3.4 固液相线温度 |
| 3.5 比热容 |
| 3.6 线膨胀系数 |
| 3.7 热导率 |
| 3.8 本章小结 |
| 4 压铸过程的数值模拟 |
| 4.1 数值模拟基本步骤及离散化方法 |
| 4.2 AnyCasting介绍 |
| 4.3 数理模型的建立 |
| 4.3.1 流体的控制方程 |
| 4.3.2 紊流模型的建立 |
| 4.3.3 几何模型的建立 |
| 4.3.4 网格划分 |
| 4.3.5 材料模型的建立 |
| 4.3.6 压射模型的建立 |
| 4.4 压铸过程数值模拟的方案设计 |
| 4.5 不同浇注温度条件下的模拟分析 |
| 4.5.1 充型过程分析 |
| 4.5.2 凝固过程分析 |
| 4.5.3 高级铸造缺陷分析 |
| 4.6 不同快压射速度下的模拟分析 |
| 4.6.1 充型过程分析 |
| 4.6.2 凝固过程分析 |
| 4.7 不同合金的压铸过程分析 |
| 4.7.1 充型过程分析 |
| 4.7.2 凝固过程分析 |
| 4.8 本章小结 |
| 5 新型铝合金的组织、力学及耐腐蚀性能分析 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 合金的制备 |
| 5.2.1 合金的制备 |
| 5.2.2 新合金以及参比合金的成分表 |
| 5.3 新型合金的铸造性能 |
| 5.3.1 铸件表面缺陷检测 |
| 5.3.2 铸件内部缺陷检测 |
| 5.4 新型铝合金的显微组织 |
| 5.4.1 不同合金的显微组织与力学性能 |
| 5.4.2 不同工艺参数新合金的显微组织与力学性能 |
| 5.5 新型铝合金的耐腐蚀性能 |
| 5.5.1 浸泡腐蚀与宏观腐蚀照片 |
| 5.5.2 腐蚀基体形貌 |
| 5.5.3 电化学腐蚀 |
| 5.6 本章小结 |
| 6 结论 |
| 7 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读硕士期间所发表的学术论文 |
（4）基于二元络合剂的化学镀铜与表面自组装技术（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 引言 |
| 2 文献综述 |
| 2.1 化学镀铜的络合剂 |
| 2.1.1 铜离子与络合剂的结合 |
| 2.1.2 络合剂在化学镀铜过程中的热力学 |
| 2.1.3 络合剂在化学镀铜过程中的动力学 |
| 2.1.4 化学镀铜添加剂的作用 |
| 2.1.5 化学镀铜的展望 |
| 2.2 化学镀铜基复合材料 |
| 2.3 自组装膜的研究 |
| 2.3.1 自组装单分子膜形成机理 |
| 2.3.2 单分子自组装膜的表征 |
| 2.3.3 单分子自组装膜制备与应用 |
| 2.3.4 单分子自组装膜的研究展望 |
| 2.4 本文的选题背景及主要研究内容 |
| 2.4.1 选题背景 |
| 2.4.2 主要研究内容 |
| 3 试验材料和研究方法 |
| 3.1 试验原料及设备 |
| 3.2 主要试验器具: |
| 3.3 研究方法 |
| 3.3.1 试片的处理 |
| 3.3.2 镀速的测定 |
| 3.3.3 化学镀液的稳定性测试 |
| 3.3.4 电化学测试 |
| 3.3.5 镀层结构分析 |
| 3.3.6 接触角测试 |
| 3.3.7 反射傅里叶变换红外光谱(FT-IR)分析 |
| 4 EDTA/THPED二元络合化学镀铜体系的沉积规律 |
| 4.1 EDTA/THPED络合比对沉积过程的作用 |
| 4.1.1 不同络合剂体系的混合电位响应 |
| 4.1.2 不同络合比在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 4.1.3 络合剂占比对沉积速率的响应 |
| 4.1.4 络合剂总量与沉积速率的关系 |
| 4.1.5 络合剂占比对镀层表面微观结构的影响 |
| 4.2 Cu~(2+)对二元络合化学镀铜体系沉积过程的作用 |
| 4.2.1 Cu~(2+)对体系混合电位的响应 |
| 4.2.2 Cu~(2+)浓度在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 4.2.3 Cu~(2+)浓度对沉积速率的影响 |
| 4.2.4 Cu~(2+)浓度对化学沉积表观形貌和结构的演变 |
| 4.3 NaOH对二元络合化学镀铜体系沉积过程的作用 |
| 4.3.1 NaOH对体系混合电位的响应 |
| 4.3.2 NaOH在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 4.3.3 NaOH对沉积速率的作用 |
| 4.3.4 NaOH对化学沉积铜表观形貌和结构的演变 |
| 4.4 甲醛对二元络合化学镀铜体系沉积过程的作用 |
| 4.4.1 甲醛对体系混合电位的响应 |
| 4.4.2 HCHO在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 4.4.3 甲醛浓度对沉积速率的作用 |
| 4.4.4 甲醛对化学沉积铜表观形貌和结构的演变 |
| 4.5 温度对二元络合化学镀铜体系沉积过程的影响 |
| 4.5.1 温度对沉积速率的作用 |
| 4.5.2 温度对化学沉积铜表观形貌和结构的演变 |
| 4.6 二元络合剂体系的反应动力学分析 |
| 4.7 本章小结 |
| 5 添加剂在二元络合化学镀铜体系中的作用 |
| 5.1 稳定剂2,2'-联吡啶在二元络合化学镀铜体系中的作用 |
| 5.1.1 2,2'-联吡啶对体系混合电位的响应 |
| 5.1.2 2,2'-联吡啶在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 5.1.3 2,2'-联吡啶对镀液稳定性的影响 |
| 5.1.4 2,2,-联吡啶对沉积速率的作用 |
| 5.1.5 2,2'-联吡啶对化学沉积铜表观形貌和结构的演变 |
| 5.2 稳定剂K_3Fe(CN)_6对EDTA/THPED体系的影响 |
| 5.2.1 K_3Fe(CN)_6对体系混合电位的响应 |
| 5.2.2 K_3Fe(CN)_6在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 5.2.3 K_3Fe(CN)_6对镀液稳定性的影响 |
| 5.2.4 K_3Fe(CN)_6对沉积速率的作用 |
| 5.2.5 K_3Fe(CN)_6对化学沉积铜表观形貌和结构的演变 |
| 5.3 稳定剂K_4Fe(CN)_6对EDTA/THPED体系的影响 |
| 5.3.1 K_4Fe(CN)_6浓度对体系混合电位的响应 |
| 5.3.2 K_4Fe(CN)_6在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 5.3.3 K_4Fe(CN)_6对镀液稳定性的影响 |
| 5.3.4 K_4Fe(CN)_6对沉积速率的作用 |
| 5.3.5 K_4Fe(CN)_6对化学沉积铜表观形貌和结构的演变 |
| 5.4 加速剂在二元络合化学镀铜体系中的作用 |
| 5.4.1 SPS浓度对体系混合电位的响应 |
| 5.4.2 SPS在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 5.4.3 SPS对化学沉积速率的作用 |
| 5.4.4 SPS对化学沉积铜表观形貌和结构的演变 |
| 5.5 表面活性剂在二元络合化学镀铜体系中的作用 |
| 5.5.1 PEG6000浓度对对混合电位的响应 |
| 5.5.2 PEG6000在二元化学镀铜体系的电极过程 |
| 5.5.3 PEG6000浓度对沉积速率的作用 |
| 5.5.4 PEG6000对化学沉积铜表观形貌和结构的演变 |
| 5.6 本章小结 |
| 6 二元络合剂体系化学镀铜制备铜包覆复合材料 |
| 6.1 用ETDA/THEPA二元络合剂体系制备润滑复合材料 |
| 6.1.1 Cu包覆石墨复合材料的制备 |
| 6.1.2 Cu包覆MoS_2复合材料制备 |
| 6.2 润滑减摩复合材料的性能 |
| 6.3 不同络合体系制备Cu包覆金刚石复合材料的分析 |
| 6.4 本章小节 |
| 7 自组装技术用于新生化学镀铜层表面的防腐蚀 |
| 7.1 自组装膜的表征 |
| 7.2 混合有机膦酸自组装的研究 |
| 7.2.1 混合有机膦酸自组装膜的制备 |
| 7.2.2 混合有机膦酸自组装膜的电化学响应 |
| 7.2.3 混合有机膦酸自组装膜的FT-IR分析 |
| 7.2.4 混合有机膦酸自组装膜接触角的测量 |
| 7.3 烷基硫醇自组装单分子膜的研究 |
| 7.3.1 硫醇自组装膜的电化学响应 |
| 7.3.2 硫醇自组装膜的FT-IR分析 |
| 7.3.3 硫醇自组装膜的接触角测量 |
| 7.4 本章小节 |
| 8 结论与展望 |
| 8.1 结论 |
| 8.2 展望 |
| 参考文献 |
| 作者简历及在学研究成果 |
| 学位论文数据集 |
（5）铁/蓝宝石直接接触界面的冲击辐射特性与辐射温度的实验研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 研究背景及科学意义 |
| 1.2 金属冲击测温的研究历史及现状 |
| 1.3 存在问题及解决方案 |
| 1.4 本文研究内容 |
| 第2章 冲击辐射特性测量原理 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 冲击压缩实验原理 |
| 2.2.1 二级轻气炮工作原理 |
| 2.2.2 弹速测量方法 |
| 2.2.3 样品及窗口的相关参数 |
| 2.3 金属样品的冲击加载和等熵卸载过程 |
| 2.3.1 飞片碰撞基板过程 |
| 2.3.2 样品的冲击加载过程 |
| 2.3.3 冲击波在“样品/窗口”界面的等熵卸载过程 |
| 2.4 光辐射测量原理 |
| 2.4.1 辐射高温计测试系统 |
| 2.4.2 实验数据处理及误差分析 |
| 第3章 样品制备与系统标定 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 铁表面抛光技术 |
| 3.3 靶结构改进 |
| 3.4 铁/蓝宝石界面间隙分析 |
| 3.4.1 光的干涉机理分析 |
| 3.4.2 实验中块状铁/蓝宝石界面间隙 |
| 3.5 杂散光屏蔽方法 |
| 3.6 高温计原位标定 |
| 第4章 实验结果分析 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 几种金属样品/光学窗口冲击测温模型 |
| 4.2.1 “Grover”理想界面模型 |
| 4.2.2 “三层介质模型” |
| 4.3 典型实验数据 |
| 4.4 实验结果与讨论 |
| 4.4.1 实验数据 |
| 4.4.2 结果分析及讨论 |
| 全文总结 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士期间发表论文 |
（6）冰冻固结磨料化学机械抛光单晶硅片的基础研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 硬脆材料塑性模态加工技术的研究现状 |
| 1.3 超光滑表面抛光技术的研究现状 |
| 1.3.1 化学机械抛光技术 |
| 1.3.1.1 化学机械抛光过程的实验研究 |
| 1.3.1.2 化学机械抛光去除机理的理论研究 |
| 1.3.2 低温抛光技术 |
| 1.4 研究目的、意义和研究内容 |
| 1.4.1 目的与意义 |
| 1.4.2 主要研究内容 |
| 1.5 小结 |
| 第二章 单晶硅片脆塑模态转变机理的研究 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 不同温度下单晶硅片的脆塑转变机理 |
| 2.2.1 实验装置与方法 |
| 2.2.1.1 试样制备 |
| 2.2.1.2 实验装置与方法 |
| 2.2.2 结果分析与讨论 |
| 2.2.2.1 压痕及压痕裂纹特征 |
| 2.2.2.2 温度对单晶硅片硬度的影响 |
| 2.3 连续刚度法研究单晶硅片的力学性能 |
| 2.3.1 实验装置与方法 |
| 2.3.1.1 试样制备 |
| 2.3.1.2 实验装置与方法 |
| 2.3.2 结果分析与讨论 |
| 2.4 纳米划痕法研究单晶硅片的脆塑转变性能 |
| 2.4.1 实验方法 |
| 2.4.1.1 试样制备 |
| 2.4.1.2 评价方法 |
| 2.4.2 实验结果与分析 |
| 2.4.2.1 断裂韧性 |
| 2.4.2.2 纳米划擦性能 |
| 2.4.2.3 临界切削深度模型 |
| 2.5 小结 |
| 第三章 纳米α-Al_20_3、CeO_2颗粒的分散工艺研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 纳米粒子的分散技术 |
| 3.2.1 纳米粒子的基本性质 |
| 3.2.2 纳米颗粒在液相中的分散原理 |
| 3.2.3 纳米颗粒的分散方法 |
| 3.2.4 纳米颗粒液相分散性的评价方法 |
| 3.3 纳米α-Al_2O_3 在水相介质中的分散性能研究 |
| 3.3.1 实验方法 |
| 3.3.1.1 水相介质中纳米α-Al_2O_3 的Zeta 电位测量 |
| 3.3.1.2 分散剂最佳浓度和最佳超声时间的确定 |
| 3.3.1.3 纳米α-Al_2O_3 沉淀物的测量 |
| 3.3.2 结果分析与讨论 |
| 3.3.2.1 水相介质中纳米α-Al_2O_3 的Zeta 电位 |
| 3.3.2.2 不同分散剂中超声分散时间对纳米α-Al_2O_3 分散性的影响 |
| 3.3.2.3 分散剂浓度对纳米α-Al_2O_3 分散性的影响 |
| 3.4 纳米CeO_2 在水相介质中的分散性能研究 |
| 3.4.1 实验 |
| 3.4.1.1 实验材料及仪器 |
| 3.4.1.2 实验方法 |
| 3.4.2 结果分析与讨论 |
| 3.4.2.1 水相介质中纳米CeO_2 的Zeta 电位 |
| 3.4.2.2 不同分散剂中超声分散时间对纳米CeO_2分散性的影响 |
| 3.4.2.3 分散剂浓度对纳米CeO_2 分散性的影响 |
| 3.5 小结 |
| 第四章 低温抛光设备及抛光工具的制备 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 抛光设备 |
| 4.3 冰冻固结磨料抛光垫的制备 |
| 4.3.1 冻冰模具的设计 |
| 4.3.2 水和冰的特性 |
| 4.3.3 冰冻固结磨料抛光垫的制备工艺 |
| 4.3.3.1 无沟槽型冰冻固结磨料抛光垫的制备工艺 |
| 4.3.3.2 沟槽型冰冻固结磨料抛光垫的制备工艺 |
| 4.3.4 冰冻固结磨料抛光垫的性能表征 |
| 4.3.4.1 里氏硬度计的测试原理 |
| 4.3.4.2 实验方法与装置 |
| 4.3.4.3 结果与分析 |
| 4.4 工件盘的制备 |
| 4.4.1 工件盘的结构设计 |
| 4.4.2 工件盘材料的选择 |
| 4.5 小结 |
| 第五章 冰冻固结磨料抛光运动轨迹及温度场仿真 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 冰冻固结磨料抛光运动轨迹仿真 |
| 5.2.1 冰冻固结磨料抛光运动轨迹理论分析 |
| 5.2.2 冰冻抛光垫单颗磨粒抛光运动轨迹 |
| 5.2.2.1 偏心距e 不同时冰冻抛光垫上单颗磨粒抛光运动轨迹 |
| 5.2.2.2 抛光垫转速不同时冰冻抛光垫上单颗磨粒抛光运动轨迹 |
| 5.2.3 冰冻抛光垫多颗磨粒抛光运动轨迹 |
| 5.2.4 冰冻抛光垫抛光运动轨迹对硅片表面质量的影响 |
| 5.3 冰冻固结磨料抛光温度场仿真 |
| 5.3.1 冰冻固结磨料抛光温度场有限元模拟 |
| 5.3.1.1 冰冻固结磨料抛光温度场有限元模型的建立 |
| 5.3.1.2 冰冻固结磨料抛光温度场计算流程 |
| 5.3.2 温度测量系统 |
| 5.3.3 冰冻固结磨料抛光温度场计算结果与分析 |
| 5.3.3.1 冰冻固结磨料抛光温度场的计算值与实测值的比较 |
| 5.3.3.2 不同环境温度下抛光时间对冰冻固结磨料抛光温度场的影响 |
| 5.3.3.3 抛光压力对冰冻固结磨料抛光温度场的影响 |
| 5.3.3.4 主轴转速对冰冻固结磨料抛光温度场的影响 |
| 5.3.3.5 偏心距对冰冻固结磨料抛光温度场的影响 |
| 5.4 小结 |
| 第六章 冰冻固结磨料化学机械抛光单晶硅片的工艺研究 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 冰冻固结磨料化学机械抛光单晶硅片的工艺过程 |
| 6.2.1 单晶硅片的粘结工艺 |
| 6.2.2 单晶硅片的预加工 |
| 6.2.3 冰冻抛光垫表面的预抛光 |
| 6.2.4 抛光后硅片的表面处理 |
| 6.3 单晶硅片的表面形貌表征方法 |
| 6.3.1 检测仪器的选择 |
| 6.3.1.1 ADE 非接触表面形貌仪 |
| 6.3.1.2 原子力显微镜(AFM) |
| 6.3.2 采样区域 |
| 6.4 材料去除率的测定 |
| 6.5 冰冻固结磨料化学机械抛光单晶硅片的工艺研究 |
| 6.5.1 抛光垫沟槽对抛光效果的影响 |
| 6.5.1.1 抛光后硅片表面粗糙度的均匀性分析 |
| 6.5.1.2 抛光垫沟槽对硅片抛光的去除率的影响 |
| 6.5.2 不同冰冻抛光垫对已加工表面粗糙度和去除率的影响 |
| 6.5.2.1 不同冰冻抛光垫对已加工表面粗糙度的影响 |
| 6.5.2.2 不同冰冻抛光垫对去除率的影响 |
| 6.5.3 单晶硅片低温抛光的工艺研究 |
| 6.5.3.1 Taguchi 法 |
| 6.5.3.2 综合平衡法 |
| 6.6 小结 |
| 第七章 冰冻固结磨料化学机械抛光单晶硅片的机理分析 |
| 7.1 引言 |
| 7.2 Al_2O_3 球和玛瑙球对单晶硅片宏观摩擦磨损行为的影响 |
| 7.2.1 实验装置与方法 |
| 7.2.1.1 试样制备 |
| 7.2.1.2 实验装置与方法 |
| 7.2.2 结果分析与讨论 |
| 7.2.2.1 单晶硅摩擦磨损性能 |
| 7.2.2.2 单晶硅摩擦表面形貌分析 |
| 7.3 冰冻摩擦偶件对单晶硅片摩擦行为的影响 |
| 7.3.1 实验装置与方法 |
| 7.3.1.1 试样制备 |
| 7.3.1.2 实验装置与方法 |
| 7.3.2 结果分析与讨论 |
| 7.3.2.1 单晶硅片摩擦性能 |
| 7.3.2.2 单晶硅片摩擦表面和断面表征 |
| 7.3.2.3 单晶硅片与冰冻偶件的摩擦机理 |
| 7.3.2.4 化学反应 |
| 7.3.2.5 磨粒的机械作用 |
| 7.4 小结 |
| 第八章 结论与展望 |
| 8.1 全文总结 |
| 8.1.1 本文完成的主要工作 |
| 8.1.2 本文的创新点 |
| 8.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 |
（7）原位增韧Al2O3陶瓷基复合材料的制备与性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 详细摘要 |
| Detailed Abstract |
| 1 引言 |
| 1.1 陶瓷材料 |
| 1.1.1 陶瓷材料的分类 |
| 1.1.2 氧化铝陶瓷 |
| 1.1.3 氧化铝陶瓷的性能及应用 |
| 1.1.4 氧化铝陶瓷的制备工艺 |
| 1.2 陶瓷材料的增韧技术 |
| 1.2.1 自增韧 |
| 1.2.2 纤维增韧 |
| 1.2.3 颗粒增韧 |
| 1.2.4 相变增韧 |
| 1.2.5 原位复合技术 |
| 1.3 碳纤维增韧陶瓷基复合材料 |
| 1.3.1 碳纤维及其分类 |
| 1.3.2 PAN 基碳纤维的发展历程 |
| 1.3.3 PAN 基碳纤维的制备 |
| 1.3.4 纤维增韧陶瓷基复合材料及其分类 |
| 1.3.5 碳纤维增韧陶瓷基复合材料的增韧原理 |
| 1.3.6 碳纤维增韧陶瓷基复合材料的设计原则 |
| 1.3.7 碳纤维增韧陶瓷基复合材料的界面 |
| 1.3.8 碳纤维增韧陶瓷基复合材料的研究进展 |
| 1.4 选题的意义、创新点及研究内容 |
| 1.4.1 选题的意义 |
| 1.4.2 创新点 |
| 1.4.3 主要研究内容 |
| 2 实验材料及研究方法 |
| 2.1 实验原料 |
| 2.1.1 氧化铝粉末 |
| 2.1.2 先驱体 |
| 2.1.3 添加剂 |
| 2.2 实验设备 |
| 2.3 实验流程 |
| 2.4 材料的组织结构表征 |
| 2.4.1 相对密度的测定 |
| 2.4.2 热物性能分析 |
| 2.4.3 XRD 物相分析 |
| 2.4.4 扫描电镜（SEM）观察及成分（EDS）分析 |
| 2.4.5 高分辨透射电镜（HR-TEM）观察 |
| 2.4.6 红外光谱分析 |
| 2.4.7 拉曼光谱分析 |
| 2.5 材料的力学性能测试 |
| 2.5.1 维氏硬度的测定 |
| 2.5.2 断裂韧性的测定 |
| 2.5.3 抗弯强度的测定 |
| 2.5.4 纳米力学探针 |
| 2.6 材料的摩擦学性能测试及表征方法 |
| 2.6.1 磨损率 |
| 2.6.2 摩擦系数 |
| 3 原位转化碳纤维增韧氧化铝基复合材料制备工艺 |
| 3.1 PAN 预氧化纤维的物理化学性能分析 |
| 3.1.1 PAN 预氧化纤维的物相分析 |
| 3.1.2 PAN 预氧化纤维的热物性能分析 |
| 3.2 烧结工艺的优化 |
| 3.2.1 烧结温度的选择 |
| 3.2.2 烧结压力的制定 |
| 3.3 复合材料的成分设计及制备 |
| 3.4 本章小结 |
| 4 碳纤维的原位生成判据 |
| 4.1 原位碳纤维的红外光谱分析 |
| 4.2 原位碳纤维的拉曼光谱分析 |
| 4.3 原位碳纤维的微观形貌及结构 |
| 4.4 原位碳纤维的力学性能 |
| 4.4.1 弹性模量 |
| 4.4.2 硬度 |
| 4.5 本章小结 |
| 5 复合材料的组织结构与性能研究 |
| 5.1 原位碳纤维的取向分布及致密度 |
| 5.1.1 原位碳纤维的取向分布 |
| 5.1.2 复合材料的致密度 |
| 5.2 氧化铝基复合材料的组织结构 |
| 5.2.1 显微组织 |
| 5.2.2 相结构分析 |
| 5.3 氧化铝基复合材料的力学性能 |
| 5.3.1 显微维氏硬度 |
| 5.3.2 抗弯强度 |
| 5.3.3 断裂韧性 |
| 5.4 本章小结 |
| 6 复合材料界面的研究 |
| 6.1 原位碳纤维与基体的界面结合形式 |
| 6.2 复合材料界面的优化设计 |
| 6.2.1 添加剂的选择及成分设计 |
| 6.3 添加剂对复合材料组织结构及界面的影响 |
| 6.3.1 碳纤维的分布及致密度 |
| 6.3.2 物相分析 |
| 6.3.3 复合材料的显微组织 |
| 6.3.4 界面区微观组织结构 |
| 6.3.5 界面区成分分析 |
| 6.4 添加剂对复合材料性能的影响 |
| 6.4.1 显微维氏硬度 |
| 6.4.2 抗弯强度 |
| 6.4.3 断裂韧性 |
| 6.4.4 摩擦磨损性能 |
| 6.5 本章小结 |
| 7 结论与展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简介 |
（8）SiC/莫来石复相多孔陶瓷制备与性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 多孔陶瓷概述 |
| 1.2 多孔陶瓷材料的分类 |
| 1.3 多孔陶瓷的制备方法 |
| 1.4 多孔陶瓷的应用 |
| 1.4.1 概述 |
| 1.4.2 应用 |
| 1.5 多孔陶瓷的研究进展 |
| 1.6 本论文的研究意义及内容 |
| 1.6.1 研究意义 |
| 1.6.2 研究内容 |
| 第二章 实验过程 |
| 2.1 实验原料 |
| 2.2 实验设备与仪器 |
| 2.3 样品的制备 |
| 2.3.1 工艺流程 |
| 2.3.2 工艺过程控制 |
| 2.4 样品性能测试与表征 |
| 第三章 SiC/莫来石复相多孔陶瓷制备与性能研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 烧结温度对 SiC/莫来石复相多孔陶瓷的影响 |
| 3.2.1 烧结温度对样品气孔率﹑体积密度的影响 |
| 3.2.2 烧结温度对样品抗折强度的影响 |
| 3.2.3 烧结温度对样品物相组成的影响 |
| 3.2.4 烧结温度对样品断面形貌的影响 |
| 3.2.5 样品抗热震与抗氧化性能测试 |
| 3.3 造孔剂加入量对 SiC/莫来石复相多孔陶瓷的影响 |
| 3.3.1 造孔剂加入量对样品气孔率、体积密度的影响 |
| 3.3.2 造孔剂加入量对样品抗折强度的影响 |
| 3.3.3 造孔剂加入量对样品断面形貌的影响 |
| 3.3.4 造孔剂加入量对样品抗热震与抗氧化性能的影响 |
| 3.4 高岭土氧化铝质量比对 SiC/莫来石复相多孔陶瓷的影响 |
| 3.4.1 m高岭土/mA1_2O_3对样品气孔率、体积密度的影响 |
| 3.4.2 m高岭土/mA1_2O_3对样品抗折强度的影响 |
| 3.4.3 m高岭土/mA1_2O_3对样品断面形貌的影响 |
| 3.5 添加剂对 SiC/莫来石复相多孔陶瓷的影响 |
| 3.5.1 不同添加剂对样品性能的影响 |
| 3.5.2 不同添加剂对样品断面形貌与物相组成的影响 |
| 3.5.3 添加剂 MgO 加入量对样品性能的影响 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 制备工艺对 SiC/莫来石复相多孔陶瓷的影响 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 保温时间对 SiC/莫来石复相多孔陶瓷的影响 |
| 4.2.1 保温时间对样品气孔率、体积密度的影响 |
| 4.2.2 保温时间对样品抗折强度的影响 |
| 4.2.3 保温时间对对样品断面形貌的影响 |
| 4.3 成型压力对 SiC/莫来石复相多孔陶瓷的影响 |
| 4.3.1 成型压力对样品气孔率、体积密度的影响 |
| 4.3.2 成型压力对样品抗折强度的影响 |
| 4.3.3 成型压力对样品断面形貌的影响 |
| 4.3.4 样品抗热震与抗氧化性能测试 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 结论与展望 |
| 5.1 结论 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 附录A 攻读学位期间发表的论文目录 |
（9）激光冲击法合成纳米金刚石的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 石墨与金刚石的晶体结构 |
| 1.2.1 石墨的结构与性质 |
| 1.2.2 金刚石的晶体结构与性质 |
| 1.3 纳米金刚石的性质与应用 |
| 1.4 人造金刚石的合成发展史 |
| 1.4.1 人造金刚石的合成工艺 |
| 1.4.2 离散纳米金刚石颗粒的合成工艺 |
| 1.4.3 当前研究面临的问题 |
| 1.5 本文研究内容 |
| 1.6 本论文课题的意义、来源及创新点 |
| 第二章 实验中所采用的原料 |
| 2.1 各种石墨原料扫描电镜分析 |
| 2.2 各种石墨原料的X射线衍射分析 |
| 2.2.1 各石墨原料中六方石墨和菱形石墨含量的计算 |
| 2.2.2 各种原料的石墨化程度分析 |
| 2.3 各种石墨原料的激光拉曼光谱分析 |
| 第三章 激光冲击法合成纳米金刚石的工艺研究 |
| 3.1 实验装置的设计 |
| 3.2 实验所用设备及其技术参数 |
| 3.3 激光冲击法合成纳米金刚石的实验流程 |
| 3.4 纳米金刚石的提纯工艺研究 |
| 3.4.1 热选择氧化法 |
| 3.4.2 强氧化剂氧化法 |
| 3.5 纳米金刚石高分辨透射电镜样品制备与分析 |
| 3.5.1 纳米金刚石的分散与稳定 |
| 3.5.2 各个实验的高分辨电镜观察结果 |
| 3.6 纳米金刚石 X 射线小角散射粒度分析 |
| 3.6.1 X 射线小角散射试样的制备与要求 |
| 3.6.2 样品的 X 射线小角散射分析结果 |
| 3.7 纳米金刚石显微激光拉曼光谱分析 |
| 3.8 经激光作用后碳颗粒的组织结构特征 |
| 第四章 激光冲击法合成纳米金刚石的相变机理 |
| 4.1 高功率密度（10~9 W·cm~(-2)）脉冲激光合成金刚石的相变机理 |
| 4.2 低功率密度（10~5～10~6W·cm~(-2)）脉冲激光合成金刚石的相变机理 |
| 4.2.1 液态碳存在的四个证据 |
| 4.3 碳相图及热力学条件 |
| 第五章 原料对激光合成纳米金刚石的影响 |
| 5.1 原料对高功率密度（10~9 W·cm~(-2)）脉冲激光合成金刚石的影响 |
| 5.2 原料对低功率密度（10~5～10~6W·cm~(-2)）脉冲激光合成金刚石的影响 |
| 第六章 激光冲击法合成纳米金刚石的理论研究 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 激光与材料相互作用物理学 |
| 6.2.1 激光对悬浮液中石墨颗粒的加热 |
| 6.2.2 激光束作用下石墨颗粒的熔融 |
| 6.2.3 石墨颗粒表面等离子体的产生 |
| 6.2.4 激光辐照时压力产生的机制 |
| 6.3 纳米金刚石颗粒尺寸限制的机制 |
| 6.4 宏观尺寸凝聚相碳的状态方程 |
| 6.5 考虑纳米金刚石表面增加后的状态方程 |
| 6.6 纳米金刚石临界形核半径的估算 |
| 第七章 结论 |
| 参考文献 |
| 发表论文和参加科研情况说明 |
| 致谢 |
（10）基于葵花籽粒结构的仿生抛光垫设计制造及抛光液流场的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 本课题研究的背景 |
| 1.2 国内外相关研究现状 |
| 1.2.1 关于抛光垫材料种类及性能的研究 |
| 1.2.2 关于抛光液流场的研究 |
| 1.2.3 关于材料去除机理的研究 |
| 1.3 本课题研究的意义与来源 |
| 1.3.1 课题研究的意义 |
| 1.3.2 课题的来源 |
| 1.4 本课题研究的内容 |
| 1.5 本章小结 |
| 第2章 叶序理论及生物葵花盘模型的建立 |
| 2.1 叶序理论 |
| 2.2 叶序在植物中存在的理由 |
| 2.3 葵花籽粒的叶序模型 |
| 2.4 仿生结构表面抛光垫的三维模型建立 |
| 2.5 叶序结构的平面模型 |
| 2.5.1 不同的角度α对应的籽粒排列方式 |
| 2.5.2 不同的叶序参数κ对应的籽粒排列方式 |
| 2.5.3 不同的葵花籽粒半径R_0对应的籽粒排列方式 |
| 2.6 基于葵花籽粒结构仿生抛光垫的三维模型建立 |
| 2.7 本章小结 |
| 第3章 固结磨料仿生抛光垫的制备 |
| 3.1 固结磨料抛光垫的概述 |
| 3.2 固结磨料向日葵仿生抛光垫的形貌 |
| 3.3 丝网印刷的概述 |
| 3.4 印制抛光垫中的网版 |
| 3.5 印制抛光垫中的刮板 |
| 3.5.1 刮板简介 |
| 3.5.2 刮板在印刷中角度的确定 |
| 3.6 印制抛光垫中的网距 |
| 3.7 制备固结磨料仿生抛光垫的材料 |
| 3.7.1 印制抛光垫的聚氨酯 |
| 3.7.2 印制抛光垫的磨料 |
| 3.8 印制固结磨料仿生抛光垫 |
| 3.9 丝网印刷工艺过程 |
| 3.10 固结磨料仿生抛光垫的实物 |
| 3.11 本章小结 |
| 第4章 基于叶序抛光垫的化学机械抛光的抛光液流场分析 |
| 4.1 液-固两相流概述 |
| 4.2 抛光液的两相流模型 |
| 4.3 液-固两相流的基本方程 |
| 4.3.1 液-固两相流的基本假设 |
| 4.3.2 液-固两相流的基本方程 |
| 4.4 CFD方法和FLUENT软件简介 |
| 4.4.1 计算流体力学CFD概述 |
| 4.4.2 FLUENT软件简介 |
| 4.5 化学机械抛光流体润滑效应理论的建立 |
| 4.5.1 润滑原理的的简介 |
| 4.5.2 化学机械抛光抛光液流场运动方程的推导 |
| 4.6 化学机械抛光过程中的抛光液流动状态的数值模拟 |
| 4.6.1 计算域及网格的生成 |
| 4.6.2 计算域的边界条件 |
| 4.6.3 叶序参数及籽粒直径对抛液流动状态的影响 |
| 4.6.4 抛光垫转速对抛光液流动状态的影响 |
| 4.6.5 工件转速对抛光液流动状态的影响 |
| 4.6.6 抛光液的流层状态 |
| 4.6.7 抛光液流场的等值线图 |
| 4.7 本章小结 |
| 第5章 基于仿生抛光垫下化学机械抛光的实验研究 |
| 5.1 实验装置与实验材料 |
| 5.1.1 实验装置 |
| 5.1.2 实验材料 |
| 5.2 摆式研磨抛光机的调试 |
| 5.3 实验工艺 |
| 5.4 抛光后硅片表面的处理 |
| 5.5 关于材料去除率的实验研究 |
| 5.5.1 抛光垫参数对材料去除率的影响 |
| 5.5.2 抛光盘转速对材料去除率的影响 |
| 5.5.3 抛光液流量对材料去除率的影响 |
| 5.5.4 压力对材料去除率的影响 |
| 5.6 不同抛光盘转速下抛光液流动状态的监测 |
| 5.7 本章小结 |
| 结论与展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 |
| 致谢 |
四、“蓝宝石”抛光膏——一种新的有色金属抛光膏（论文参考文献）
- [1]“蓝宝石”抛光膏——一种新的有色金属抛光膏[J]. 长江机器制造厂中心试验室. 理化检验通讯, 1968(02)
- [2]话说稀土抛光材料[J]. 霍知节. 新材料产业, 2019(06)
- [3]新型高强、高耐腐蚀压铸铝合金的研究[D]. 梁振兴. 上海交通大学, 2013(04)
- [4]基于二元络合剂的化学镀铜与表面自组装技术[D]. 卢建红. 北京科技大学, 2019(06)
- [5]铁/蓝宝石直接接触界面的冲击辐射特性与辐射温度的实验研究[D]. 郭锦良. 西南交通大学, 2008(06)
- [6]冰冻固结磨料化学机械抛光单晶硅片的基础研究[D]. 孙玉利. 南京航空航天大学, 2008(04)
- [7]原位增韧Al2O3陶瓷基复合材料的制备与性能研究[D]. 曹晶晶. 中国矿业大学（北京）, 2013(10)
- [8]SiC/莫来石复相多孔陶瓷制备与性能研究[D]. 陈茂开. 湖南大学, 2012(02)
- [9]激光冲击法合成纳米金刚石的研究[D]. 雷贻文. 天津大学, 2006(02)
- [10]基于葵花籽粒结构的仿生抛光垫设计制造及抛光液流场的研究[D]. 张田. 沈阳理工大学, 2011(01)