一、新技术冲击氩离子激光器（论文文献综述）
王琦,万法琦,赵会峰,熊春荣,文峰,姜宏[1]（2021）在《玻璃表面处理综述》文中进行了进一步梳理本文归纳了近年实验室研究与工业生产中玻璃表面常用的处理方法主要包括化学刻蚀、物理刻蚀、表面镀膜等的研究进展,梳理了不同种类玻璃表面处理工艺的优劣,介绍了表征玻璃表面结构、化学组成及电子态的常用分析方法。在未来的玻璃表面处理研究中,除改进现有的表面处理工艺外,还需开发新的表面处理技术。此外,微观上需重视表面化学组成与结构对玻璃性能的影响。
赵洋[2]（2021）在《激光支持吸收波二元等离子体的时空演化研究》文中指出激光诱导等离子体光谱（Laser-induced plasma spectroscopy,LIPS）又称为激光诱导击穿光谱（Laser-induced breakdown spectroscopy,LIBS）,它是一种基于原子发射光谱的定量分析技术,具有快速、多元素同时分析、无需复杂样品制备等优点,在化工、冶金等工业过程监测领域具有广泛的应用潜力。LIBS的光谱源是激光烧蚀样品材料诱导的、具有瞬态特性、寿命为微秒量级的等离子体,其辐射光谱包含了样品成分信息和含量信息。尽管时间分辨和门控检测可以极大地提高LIBS技术的分析表现,但LIBS光谱性能还与等离子体形态和空间不均匀性有关,会影响定量分析结果的准确性和重复性。因此,研究等离子体的形态、内部结构及其在环境气体中的膨胀演变过程有着重要意义:（1）深入理解激光和样品相互作用以及等离子体动力学等过程所涉及的复杂现象;（2）为理论模型提供实验验证的手段;（3）指导优化光学采集参数,为高灵敏高时空分辨LIBS定量分析的实现开辟新途径;（4）计算不同时刻等离子体中粒子数密度及吸收路径长度,探索自吸收效应产生和演化的机制,丰富自吸收免疫激光诱导击穿光谱（Self-absorption-free laser-induced breakdown spectroscopy,SAFLIBS）理论;（5）为进一步优化激光诱导等离子体相关技术包括脉冲激光沉积、纳米材料制造、激光焊接等的应用奠定基础。基于LIPS演化的复杂性,国际上许多研究者都使用简化模型或数值模拟描述纳秒激光诱导产生的等离子体在环境气体中的传播过程。然而,很少有实验数据能从物理原理层面出发,有效结合激光支持吸收波（Laser-supported absorption wave,LSA wave）的传播理论和粒子分布来阐明不同条件下等离子体粒子间相互作用机制。本文围绕LIBS等离子体时空演化的关键科学和技术问题,主要从以下两方面开展工作:一、发展用于激光诱导等离子体演化研究的时空分辨技术,包括时空分辨光谱层析技术和等离子体瞬态成像技术;二、研究二元等离子体的时空演化机制。具体研究内容包括:首先,综述了LIBS的基本原理、发展历史、研究现状和应用瓶颈,介绍了等离子体时空演化的研究现状,回顾了激光诱导等离子体的物理过程。随后,介绍了两种等离子体时空分辨技术的测量方案设计、光学分析方法、等离子体的局域热力学平衡判定方法、等离子体参数获取方法和自吸收校正方法。接着,对易混溶和难混溶二元合金产生的激光诱导等离子体的结构和动力学演化进行了实验研究,讨论了不同LSA波等离子体的演化特征,如形态、粒子寿命、内部结构、粒子衰减速度等,并探索了等离子体中粒子分布与LSA波的关系,由此得出结论:难混溶合金产生的激光支持燃烧波（Laser-supported combustion wave,LSC wave）型等离子体的粒子分布受组成元素熔点的影响较大,而易混溶合金产生的LSC波型等离子体的粒子分布则与元素沸点有关;无论是易混溶的还是难混溶合金,激光支持爆轰（Laser-supported detonation wave,LSD wave）波型等离子体中粒子的分布只与相对原子质量有关;LSC波型等离子体中粒子衰减速度在很大程度上与跃迁几率有关,而LSD波型等离子体中粒子衰减速度则与上能级的粒子数密度有关。本文的创新之处:一、基于激光与等离子体相互作用的物理机理及激光支持吸收波二元等离子形态、结构及粒子分布的时空演化分析,结合等离子体组成元素的物理性质、等离子体特征参数、谱线跃迁结构、谱线属性,形成了不同传播类型的二元等离子体时空演化理论机制;二、发展了高时空分辨的瞬态等离子体成像技术和光谱层析技术,实现了精密分析不同时域和空间等离子体的形态、内部结构及等离子体参数,为等离子体、激光光谱等学科的相关时空分辨研究提供了新的技术手段。
苏丹[3]（2020）在《新型高精度光纤光栅应变传感技术研究》文中提出石油天然气是人类现代文明发展中不可或缺的资源,在油气勘探开发过程中,应变的监测（包含了油气井的井斜和方位测量、生产测井中高温应变监测及高精度压力检测等）可以有效地保障油气田正常的勘探开发作业、提高采收率、提升储量替代率等。光纤布拉格光栅（Fiber Bragg grating,FBG）应变监测技术相较于传统电类应变监测技术,具有抗电磁干扰、耐腐蚀、耐高温高压、易于组网复用等优势,克服了电类传感器存在的诸多限制和难题,赢得了大量关注和研究,具有广阔的市场应用潜力。另外,由于国内石油勘探开发工程也正面临着如高成本、油田高含水、高采出、非常规油田高占比等诸多严峻问题和考验,对新技术的需求已迫在眉睫,因此研究基于新型FBG的应变传感技术具有重大意义。本论文利用飞秒激光结合相位掩模板技术在特种光纤中写制新型FBG,针对应变测量中的高精度、方向性识别和多参量测量等科学技术和工程应用问题,重点研制了两种基于少模光纤的新型FBG弯曲（位移）传感器;一种基于熔接点集成双FBG的高温应变传感器;制作了一种膜片式FBG压力传感器,并进行了标准计量测试。论文主要内容如下:1.综述了光纤应变传感技术及新型FBG矢量应变传感器国内外研究现状,结合FBG的基本理论,阐述了利用飞秒激光写制FBG的技术和方法。介绍了实验室利用飞秒激光刻写新型FBG的实验研究平台及实验方案。2.提出并优化了少模FBG飞秒激光结合相位掩模板写制新方法（对芯写制和离轴写制）用于高效激发耦合模LP01-11,研究了基于少模FBG传感器的耦合特性和弯曲作用机理,设计制作了两种基于少模FBG的弯曲（位移）传感器,且弯曲测量均利用耦合模LP01-11能量解调。其中:（1）基于四模对芯FBG的弯曲（位移）传感器,以四模光纤作为敏感元件,FBG仅作为反射镜,耦合模LP01-11能量弯曲响应具有良好的线性灵敏度和规律的方向性响应特性,且该传感器可实现温度同时测量;（2）基于两模离轴FBG的弯曲（位移）传感器,利用离轴写制法引入了非圆对称FBG结构,相比于四模对芯FBG结构,该传感器弯曲灵敏度更高,方向响应特性更好,也能实现温度同时测量。3.研制了一种基于光纤熔接点集成双FBG的高温应变传感器。利用单模光纤（Single Mode Fiber,SMF）和细芯光纤（Thin-core Fiber,TCF）纤芯折射率的差异,通过飞秒激光结合相位掩模板法,在SMF和TCF熔接点两侧纤芯区域刻写了总长度仅约为4mm的双FBG结构,实现了温度应变的同时测量。实验中通过化学腐蚀TCF进一步提高传感器的应变响应灵敏度,并采用高温退火工艺提高传感器的热可靠性和稳定性。传感器温度和应变测量范围分别为100℃-800℃、0-1000με,应变灵敏度最高可达到3.25 pm/μ?。4.研制了一种基于膜片与FBG相结合的压力传感器。通过对传感器件进行整体封装结构设计、承压膜片材料选择、膜片尺寸优化、模拟仿真分析、机械结构加工和装配等,实现了0-40 Mpa的油压测量,基本误差为0.073%,测量精度（不确定度/准确度/最大允许误差）为0.1级,为高精度FBG压力传感器的后续研制积累了宝贵的资料和经验。
马利男[4]（2020）在《基于离子辐照的晶体光波导有源器件及二维纳米材料改性研究》文中指出为了促进并加快光学系统向小体积、大容量、低成本、多功能和高运行效率的方向发展,人们提出了“集成光学”的概念。集成光学主要研究光学系统的微型化,即通过在单个光学芯片基底上制备和集成若干个微纳光子学器件实现对光信号的处理与传输,从而形成微纳光学系统--集成光路。构成集成光路的光子学器件包括无源光子学器件和有源光子学器件,无源光子学器件是指器件工作时不需要外加能源驱动,如分束器、耦合器、滤波器、衰减器、偏振器等,而有源光子学器件工作时需要外加能源驱动,如放大器、激光器、调制器等。光波导是以上各种光子学器件中重要的基本组成部分,它是通过光在介电材料界面处的全内反射限制和引导光波传输的微纳结构,因此波导区的折射率往往高于周围介质的折射率,从而增强了光波导中的光功率密度。基于光波导结构的紧凑性特征,人们能够制备出不同功能的光波导器件（如波导耦合器、波导放大器、波导激光器等）,从而可以有效地实现光路的集成化。目前,科研人员已经在介电晶体中制备了多种光波导结构,例如平面光波导、条形光波导和包层光波导等。迄今为止,如何制备体积小、损耗小、稳定性高的晶体光波导结构依然是集成光学中重要的基础研究课题。本论文使用离子辐照技术在介电晶体中制备平面光波导,它具有可控性高、适用性广和重复性高等优势。在离子辐照制备晶体光波导的过程中,入射的载能离子会与晶体衬底的原子核或电子发生级联碰撞,交换能量,最后以一定的深度停留在衬底内,而衬底内部受撞击的位置的晶格结构将发生变化,从而这部分晶体的折射率发生变化,与没有受到撞击的部分晶体的折射率形成差值。离子辐照技术不仅仅可以制备平面光波导,它还可以与光刻、掩膜、精密金刚石刀切割等微纳加工技术结合来制备复杂类型的光波导以满足不同的应用。纳米材料科学是一门致力于研究三维空间中至少一维处于100 nm以下的材料的性质和应用的学科,在这种尺度下,组成材料的原子中的电子必然至少受到空间某一个方向上的限制,导致材料在这一方向的层间作用消失,因此,即使组成材料的元素不发生变化,材料的物理和化学性质也会改变。由于纳米材料中存在尺寸效应,所以不同维度的材料将表现出不同的性质。如果在两个和三个方向上限制材料中电子的运动,那么便可以得到一维材料和零维材料。如果电子的运动在一个方向上受限,那么便可以得到二维材料。实验上第一个被发现的二维材料就是石墨烯,它的成功制备掀起了学术界对二维材料的研究热潮。石墨烯是碳材料家族的基本结构单元,从石墨烯上“剪”出不同形状的纳米片就可以包出零维材料--富勒烯,卷出一维材料--碳纳米管,堆出三维材料--石墨。随着材料制备方法和表征技术的发展,越来越多的二维材料被成功发现,如黑磷、氮化硼、过渡金属硫族化合物以及各种二维异质结构等,它们往往具有不同于三维块材的独特力学、电学以及光学特性,因此在光电子器件、太阳能电池、传感、可饱和吸收体应用等方面具有很好的应用前景。二维材料如此广泛的应用范围不仅仅使得其固有的特性成为研究热点,为了扩展二维材料新的性质和应用,研究人员已经利用多种方法改性二维材料,其中离子束技术是公认的材料改性手段之一。离子辐照是即可控又稳定的缺陷调控技术,通过选择不同的离子辐照的能量和剂量,研究人员能够有效地在二维材料中引入特定类型和浓度的缺陷,从而调控其的性质。此外,离子辐照可以有效地调控二维异质结的层间距,机械堆积在一起构成的异质结中往往存在大量的褶皱,因此其层间距过大,致使异质结中的层间耦合作用极低,严重影响其光学性质。而载能离子束与二维异质结相互作用时,高能离子能够将能量传递给异质结,为其提供动量,使得异质结的层间距大大减小,从而增强其层间耦合作用。本论文的主要内容包括利用离子辐照技术在介电晶体中制备光波导放大器、在激光晶体中制备连续波和调Q脉冲波导激光器以及利用离子辐照改性单层二维材料和二维异质结。实验根据所制备的光波导器件的不同和二维材料结构的不同,可以将本论文的主要研究工作归纳如下:利用碳离子（C5+）辐照技术在铒和氧化镁共掺的近化学计量比铌酸锂（Er:MgO:SLN）晶体中制备了厚度约为10 μm的平面光波导结构,通过棱镜耦合实验测量了平面光波导在1539nm下的暗模特性,实验发现该波导中存在7个导波模式,而且波导对低阶模式的限制能力较好。然后再利用精密金刚石刀片切割技术在Er:MgO:SLN平面光波导上切割出水平间距为25 μm的两条空气沟槽,沟槽之间的波导层即脊型光波导结构。利用反射率计算法（RCM）,结合平面波n导的暗模特性对脊型波导的折射率分布进行拟合,发现脊型波导的折射率分布为“增强势阱+光位垒”型,并且在近红外波段仅支持单模传输。通过980nm波长的激光研究Er:MgO:SLN脊型波导以及Er:MgO:SLN衬底的荧光光谱发现,波导区材料的荧光特性得到了完好的保存,并且荧光强度大于衬底区的荧光强度。最后使用Er:MgO:SLN脊型波导作为增益介质,在980 nm激光泵浦下实现了通信C波段的信号光放大输出。泵浦功率为99.5 mW时,放大器在1536 nm、1552 nm、1565 nm 波长处增益分别为 2.13 dB/cm、1.49 dB/cm、1.37 dB/cm。利用两次碳离子（C5+）辐照技术结合精密金刚石刀切割技术在镱掺杂钇钪镓石榴石（Yb:YSGG）晶体中制备了宽度为40 μm的包层条形光波导。实验结果表明,由于两次离子辐照效应的叠加,Yb:YSGG晶体表面形成了包层条形波导结构（核心层-内包层-外包层）,并且该波导的折射率分布呈现梯度型,核心层的折射率最大,内包层和外包层的折射率都小于核心层的折射率。利用该条形波导作为波导激光系统中的增益介质,在940 nm激光泵浦下实现了 1023.6 nm波长的连续波波导激光振荡,连续波激光的最大输出功率和斜率效率分别为52.3 mW和46%。利用二硫化钨（WS2）纳米片作为可饱和吸收体,并将其涂覆在Yb:YSGG条形波导上表面,在227 mW的激光泵浦下获得了波长为1024.8 nm的调Q脉冲波导激光,此时获得的脉冲激光的脉冲宽度最小,值为125 ns。将石墨烯和二氧化钒（V02）分别与Nd:YAG晶体波导结合构成复合光波导结构,并利用电和热分别控制石墨烯和VO2的可饱和吸收性质,在810nm激光泵浦下,分别实现了 1μm的连续波和调Q脉冲波导激光输出。具体来说,在没有电压信号输入时,石墨稀-Nd:YAG复合波导在810nm激光泵浦下输出了 1064 nm波长的调Q脉冲激光,并且在泵浦功率为500 mW时获得15 mW的最大平均输出功率,对应的脉冲持续时间（重复频率）为32ns（2MHz）;当输入的电压信号从0V增加到8V时,可观察到输出的脉冲序列逐渐变宽,脉冲持续时间从32ns增加到260ns;当输入电压高于10 V时获得连续波激光输出。此外,随着电压从0 V增加到14 V,石墨烯的调制深度从1.2%缓慢减小到0%。结果表明,对石墨烯-Nd:YAG复合波导施加正电压可调控石墨烯的饱和吸收性质,从而实现Nd:YAG连续波波导激光和调Q脉冲波导激光的转换输出。当有电流信号输入时,复合波导的输出激光功率随输入电流的增加先是从10 mW缓慢降低到7 mW,然后迅速降至零。同时,脉冲持续时间从40 ns增加到138 ns,表明电流能够控制脉冲波导激光器在开关状态。V02-Nd:YAG复合波导在810 nm激光泵浦下输出了 1064 rnm的调Q脉冲激光,输出的最大平均功率为47 mW,最小脉冲持续时间为2.3 ns。通过温度控制器调节V02薄膜的温度,V02在从绝缘态到金属态的转变过程中,V02-Nd:YAG复合波导对1064 nm激光的吸收展现出饱和吸收的现象。当V02薄膜被加热至325 K时,获得了 700 ps的脉冲激光输出,继续加热薄膜到330K,输出的激光从脉冲转到连续波激光,随着温度的升高,连续波激光的最大输出功率为37 mW;当V02薄膜被冷却到312 K时,观察到脉冲序列出现,此刻脉冲宽度和平均功率迅速增加到室温值。通过对比加热和冷却过程发现,冷却过程中,调Q脉冲激光性能表现出热滞后现象。利用离子辐照单层二硫化钨（WS2）以及单层石墨烯和单层二硒化钨组成的异质结（Graphene/WSe2）,研究了辐照后的二维材料的光学性质以及应用。具体来说,利用能量为60keV的氩离子（Ar+）辐照蓝宝石衬底的单层WS2,利用拉曼光谱和X射线光电子能谱（XPS）对辐照后的WS2进行表征,发现辐照后的WS2中产生大量的硫空位和钨空位缺陷,且缺陷的密度与辐照剂量密切相关,即辐照剂量越大,硫空位的浓度越大,意味着WS2中硫原子与钨原子的比率随辐照剂量的增加而降低。通过第一性原理计算发现缺陷的WS2的带隙中存在中间电子态,并且电子态的密度随硫空位密度的增加而增加,当硫原子与钨原子的比为1.899时,WS2的能够吸收1eV左右的近红外光。此外,随着硫空位密度的增加,WS2对近红外波段的光的线性光学吸收和饱和吸收也随之增加。将辐照后的WS2作为可饱和吸收体整合到Nd:YAG波导激光系统中,实现并优化了近红外调Q脉冲波导激光。利用能量为6MeV的碳离子（C3+）辐照蓝宝石衬底和铜网上的Graphene/WSe2异质结,并将其应用到表面增强拉曼散射（SERS）中。利用酞菁铜（CuPc）作为探针分子研究了 Graphene/WSe2的SERS活性与增强机理,实验结果表明,与Graphene和WSe2基底相比,辐照的Graphene/WSe2异质结具有较强的SERS活性,其拉曼增强因子为28.6（1528.3cm-1特征峰）,并且该异质结具有较好的SERS信号一致性。此外,Graphene/WSe2的SERS活性不受异质结衬底的影响,但是严重依赖异质结组装的顺序。第一性原理计算和泵浦探测测试表明受载能碳离子的影响,辐照后的Graphene/WSe2中Graphene和WSe2紧密接触,因此异质结中存在较强的层间耦合作用,从而促使其层间的电荷转移增加,将其作为SERS基底时,超快的层间电荷转移使得探针分子周围的电子态密度变大,使得探针分子的拉曼散射光的强度增加。
陈成[5]（2020）在《278nm全固态激光系统光学薄膜的研制》文中研究表明激光作为20世纪最伟大的发明,已经成为国家综合实力的象征之一。由于紫外全固态激光器体积小、能量大、光束质量高以及工作稳定性好等优点,在国防、精密加工、医学和科学研究等领域得到了广泛应用。基于CBO晶体优良的特性,278nm全固态激光系统有望成为一种可实用化高功率新型短波紫外全固态激光源。本文根据278nm全固态激光系统技术要求,在JGS1基底上,选择金属铪和UV-Si O2作为薄膜材料,研制了一种倍频分离膜和高反膜用于二倍频激光和四倍频激光的分离。在分析了光谱性能随膜系周期变化规律的基础上,结合电场强度对薄膜激光损伤阈值和光学损耗的影响,完成了膜系的优化设计。借助多种测试手段及分析软件,通过对比实验优化了薄膜沉积工艺,减小了由于工艺因素引起的光学损耗。通过对薄膜制备工艺进行探究,制定了详细的基底清洗流程;设置了使膜料充分预熔的程序;选择了合适的膜厚监控方式;优化了离子源清洗和辅助沉积的工艺参数。通过对试验片光谱反演,分析出造成误差的主要因素,制定了降低膜厚控制误差的有效方案。当入射角为45°时,最终制备的倍频分离膜在278nm处的透过率为98.82%,556nm波长处反射率为99.80%,高反膜在278nm处反射率为99.60%,在40°～50°范围内光谱平均值满足技术要求。经过测试,倍频分离膜抗激光损伤阈值为12.53J/cm2,高反膜为14.41J/cm2,抗激光损伤能力良好,耐环境性能优异。
黎波[6]（2019）在《离子束表面改性提升熔石英激光损伤阈值的物理规律研究》文中提出熔石英材料具有优良的光学、力学及机械性能,主要用于制作紫外光学元件,被广泛地应用于高功率激光系统,其负载能力很大程度上取决于熔石英元件的抗激光损伤能力。然而,熔石英光学元件在紫外激光辐照下容易损伤,严重降低了光学元件的使用寿命和高功率激光装置的负载能力,成为制约惯性约束聚变发展的瓶颈。提升熔石英元件的负载能力已成为目前迫切需要解决的问题之一。从损伤机制来看,通常提升熔石英抗激光损伤能力的途径从以下两个方面出发:（1）减少甚至去除熔石英表面的缺陷,降低其损伤的概率;（2）施加压应力,强化表面,同时降低或抵消激光辐照转换而来的热致应力,使其低于光学材料断裂的临界应力。目前关于熔石英表面缺陷和表面应力与激光损伤的关系的报道还很少。本论文基于离子束与材料相互作用的两个主要效应:溅射和注入,研究了基于溅射的离子束刻蚀去除熔石英表面缺陷,改善表面质量,提升熔石英元件激光损伤阈值;研究了离子注入在熔石英表面形成压应力层,强化表面,进一步提升熔石英抗激光损伤性能。论文主要内容及研究结果如下:1.研究了离子束刻蚀参数对熔石英表面离位损伤、刻蚀速率、表面质量及激光损伤阈值的影响。结果表明,离子能量越大及入射角越小,离位损伤越严重,损伤深度越深;刻蚀速率随着离子能量的增加而增加,随着束流的增加呈线性增加,随着离子入射角度的增加先增加后减小。离子束刻蚀可以去除金属杂质,钝化或去除表面缺陷,改善表面质量,提升熔石英的激光损伤阈值。本论文优化的离子束参数为:能量800 eV、束流300 mA及离子入射角度范围为0o30o及≥70o。2.采用大入射角离子束对熔石英表面进行逐层去除,研究了刻蚀后熔石英表面金属杂质和缺陷、表面分子结构变化及其对激光损伤阈值的影响;同时分析了熔石英表面激光损伤机理。结果表明,金属杂质元素主要分布在熔石英表面0200nm的深度范围;刻蚀500 nm后,暴露出大量的亚表面缺陷,缺陷的尺寸和数量最大,表面质量恶化;随着刻蚀深度进一步增加,亚表面缺陷逐步去除,表面质量得到改善;随着刻蚀深度的增加,结构型缺陷密度和Si-O-Si键角减小而表面密度增加;熔石英表面金属杂质对紫外激光具有很强的吸收,是制约激光损伤阈值提升的关键因素;此外,亚表面缺陷会导致光场调制,限制了激光损伤阈值的进一步提升。3.针对离子束刻蚀和HF酸刻蚀各自的局限性,提出了复合刻蚀方法,即大角度离子束刻蚀+动态HF酸刻蚀。离子束刻蚀能够有效地去除熔石英表面金属杂质及亚表面缺陷,减少了HF酸对熔石英的刻蚀去除量,避免了缺陷的复制扩展,反应产物的沉积,面型的恶化。HF酸刻蚀能够去除离子束刻蚀引起的原子尺度的损伤层,并改善离子束刻蚀后的面型,提高刻蚀效率。采用70o离子束刻蚀熔石英表面2μm后,再采用HF酸刻蚀3μm,熔石英元件的激光损伤阈值为35.54 J/cm2,提升了102.74%。4.研究了Ar+、He+、N+离子注入对熔石英的激光损伤行为的影响。结果表明,离子注入的同时伴随着溅射效应,钝化表面缺陷,粗糙度略微降低;离子注入过程中,缺陷的复合起主要作用导致结构型缺陷密度减小;离子注入均导致熔石英表面Si-O-Si键角减小,密度增加,形成了压应力层,从而增强了熔石英表面的力学性能。相较于He+离子注入,Ar+离子注入后熔石英表面粗糙度较小,压应力较大,激光损伤阈值提升较多。对于N+离子注入,会与键断裂的硅氧结合,形成氮硅化物,结构型缺陷密度最小,硬度最大,激光损伤阈值提升幅度最大,但是增加了光学击穿的可能性。5.采用不同能量、注量氩离子注入熔石英表面,研究了氩离子注入对熔石英表面形貌、微结构、光学和力学性能以及激光损伤性能的影响规律。结果表明,离子注入的挤压作用可以弥合熔石英表面的微裂纹;离子注入的同时伴随着溅射效应,钝化表面缺陷,粗糙度略微降低,但是,当注量超过1×10177 ions/cm2时,由于氩气泡的出现,粗糙度增加,表面质量恶化;离子注入过程中,结构缺陷的产生与复合相互竞争,导致缺陷密度随着离子能量和注量的增加,先减小后增加,在能量为10 keV、注量为1×10177 ions/cm2时,缺陷密度及种类最少;氩离子注入导致熔石英表面Si-O-Si键角减小,密度增加,形成了压应力层,从而增强了熔石英表面的力学性能;氩离子注入提升熔石英激光损伤阈值是缺陷密度的减少、表面质量的改善、压应力的形成等多种因素综合作用的结果,熔石英表面压应力对紫外激光辐照下损伤增长也有一定的抑制作用。
李世新[7]（2019）在《冷轧圆盘剪表面强化工艺研究》文中提出本文旨在研究冷轧圆盘剪表面强化工艺,以延长圆盘剪寿命,提高产品质量。通过磁控溅射工艺制备氮化铬涂层,考察不同工艺参数制备氮化铬涂层对冷轧圆盘剪表面强化的影响。采用激光淬火工艺,考察不同激光功率对冷轧圆盘剪耐磨性的影响。采用等离子体增强平衡磁控溅射技术,不同热丝电流条件下,在6542高速钢基体上制备CrN涂层,使用轮廓仪、SEM、XRD、显微硬度仪等设备对涂层的厚度、显微形貌、化学成分、硬度等进行检测,探讨等离子体增强作用对平衡磁控溅射技术制备氮化钛涂层结构和性能的影响,得到以下结论:（1）在相同靶电流不同灯丝电流条件下CrN薄膜随着电流的增强,薄膜表面组织越加致密,颗粒逐渐减小。在相同灯丝电流不同靶电流条件下CrN薄膜随着电流的增强,薄膜表面组织越加致密,颗粒逐渐减小。（2）基体表面薄膜生成的相为CrN,随着灯丝电流和靶电流的增强,衍射峰强度逐渐增大。（3）随着灯丝电流和靶电流的逐渐增强,膜基结合力和硬度逐渐提高,试样的表面的摩擦系数逐渐减小。在灯丝电流为5A、靶电流为5A条件下镀膜后,试样表面的摩擦系数为0.2296。（4）冷轧圆盘剪基体组织主要为针状马氏体组织。经激光淬火后,针状马氏体组织消失,淬硬层出现粗大的枝晶网络,随着激光功率的增大,淬硬层的厚度增大,经3000W激光淬火后,淬硬层厚度为1333μm,淬硬层中的枝晶数量呈减小趋势。（5）Cr12MoV钢基体的硬度为750HV,随着激光功率的增大,硬度逐渐提高,经3000W激光淬火后,硬度最大,为950HV。（6）基体的摩擦系数为0.6376,试样经2000W激光淬火后,摩擦系数为0.4294,随着激光功率的逐步增加,摩擦系数逐渐减小,经3000W激光淬火后,摩擦系数最小,为0.3729。
邹淑玲,黄秋艳,王玉芝,苑凯华,黄正[8]（2018）在《血管靶向激光的特征和应用》文中研究指明血管靶向激光以血管中的血红蛋白为靶分子,经由激光与血红蛋白相互作用的光热效应,破坏和封闭受照射的血管组织,以达到特定的治疗目的。选择性光热解作用是血管靶向激光的基本原理。本文围绕国内外临床上常见的几种血管靶向激光器,介绍和讨论其工作特征和治疗参数。并对密切相关的非激光光源和血管靶向光动力疗法的光源作简要介绍。
王希军[9]（2006）在《我国光电子产业的技术选择及对策研究》文中研究指明高新产业是全球经济不断发展的希望所在,特点是依托科学技术一体化的高技术形成技术群,光电子技术产业就具有如此特点。因此,本文针对光电子技术的高技术特征,从技术哲学、技术经济学、技术创新学和竞争论等相关理论出发,对技术选择理论在高新产业应用中的问题加以分析,着重于与技术内在发展规律相关的技术轨道、技术发展模型和技术创新动态过程的研究。采用理论与实际、定性与定量相结合的方法,对高新产业中的光电子技术产业进行分析和技术选择研究;在国家科技发展战略指导下,对光电子产业的关键技术选择展开研究,设计了高技术发展路线图和提出了发展对策。第一,从技术内在发展规律角度,着手研究高新产业技术选择理论和设计方法,首次建立了技术轨道跃迁函数解析模型和创新过程三态转化定量模型。在分析传统的技术选择理论基础和原则的基础上,应用竞争理论建立了高新技术选择的原则,完成了选择方案设计。结合技术选择原则的讨论,建立了高新产业技术选择的指标体系,为开展我国光电技术产业的技术选择及对策研究奠定了基础。第二,针对光电子技术具有科学技术一体化的特征,利用文献计量方法开展了我国光电子技术科研状况分析。在技术内在发展规律和技术选择理论的指导下,从高技术的科学基础和高新产业面对市场实践出发,研究我国光电子技术产业发展的现存问题。通过对全球光电子技术产业的发展现状的初步分析,首次从技术创新动态过程、技术轨道、技术选择和竞争战略等方面对我国光电子技术产业的技术选择进行了多方位的研究。第三,在自主创新的国家科学发展战略指导下,应用技术选择理论对光电子技术产业提出关键技术选择设计。在分析了当前我国光电子产业技术创新形势的基础上,提出具有可操作性的技术发展战略和国家关键技术选择的建议。
吕丹丹[10]（2005）在《消费应用促进非二极管激光器市场的增长》文中研究指明
二、新技术冲击氩离子激光器（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、新技术冲击氩离子激光器（论文提纲范文）
（1）玻璃表面处理综述（论文提纲范文）
| 1 前 言 |
| 2 玻璃表面的化学刻蚀 |
| 2.1 酸对玻璃的刻蚀 |
| 2.2 碱对玻璃的刻蚀 |
| 3 玻璃表面的物理刻蚀 |
| 4 玻璃表面的镀膜 |
| 4.1 玻璃表面膜层类型 |
| 4.1.1 透明导电薄膜 |
| 4.1.2 自洁净玻璃 |
| 4.1.3 光热控制薄膜 |
| 4.1.4 增透减反射膜 |
| 4.1.5 电致变色薄膜 |
| 4.1.6 过渡层薄膜 |
| 4.2 玻璃表面镀膜的技术类型 |
| 4.2.1 溶胶-凝胶镀膜 |
| 4.2.2 磁控溅射镀膜 |
| 4.2.3 化学气相沉积镀膜 |
| 5 玻璃表面组成的改变 |
| 6 玻璃表面接枝有机物 |
| 7 玻璃表面的研究方法 |
| 7.1 表面形貌与结构的分析 |
| 7.2 表面化学组成的分析 |
| 8 结 论 |
（2）激光支持吸收波二元等离子体的时空演化研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 激光诱导等离子体光谱概述 |
| 1.1.1 基本原理 |
| 1.1.2 发展历史 |
| 1.1.3 研究现状 |
| 1.1.4 应用瓶颈 |
| 1.2 等离子体时空演化研究现状 |
| 1.3 本论文主要研究内容 |
| 参考文献 |
| 第二章 激光支持吸收波等离子体理论 |
| 2.1 激光诱导等离子体概述 |
| 2.2 激光烧蚀过程 |
| 2.2.1 激光烧蚀机制 |
| 2.2.2 激光与金属的耦合 |
| 2.2.3 激光对金属的持续热作用 |
| 2.3 等离子体的形成过程 |
| 2.3.1 羽流的产生 |
| 2.3.2 蒸汽等离子体和冲击气体对激光的吸收过程 |
| 2.4 激光支持吸收波等离子体传播过程 |
| 2.4.1 激光支持燃烧(LSC)波型等离子体 |
| 2.4.2 激光支持爆轰(LSD)波型等离子体 |
| 2.5 等离子体辐射、冷却及再凝聚过程 |
| 2.6 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第三章 等离子体时空分辨技术研究 |
| 3.1 时空分辨光谱层析技术 |
| 3.2 等离子体瞬态成像技术 |
| 3.3 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第四章 二元难混溶铝锡合金表面等离子体的时空演化机制 |
| 4.1 构造激光支持吸收波等离子体 |
| 4.2 验证激光支持吸收波等离子体传播机制 |
| 4.3 激光支持吸收波等离子体的时间演化 |
| 4.4 激光支持吸收波等离子体的空间演化 |
| 4.5 元素比例对等离子体演化的影响 |
| 4.6 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 二元易混溶铝镁合金表面等离子体的时空演化机制 |
| 5.1 构造激光支持吸收波等离子体 |
| 5.2 验证激光支持吸收波等离子体传播机制 |
| 5.3 激光支持吸收波等离子体的时间演化 |
| 5.4 激光支持吸收波等离子体的空间演化 |
| 5.5 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第六章 总结与展望 |
| 参考文献 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 |
| 致谢 |
| 个人简况及联系方式 |
（3）新型高精度光纤光栅应变传感技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 光纤传感技术概述 |
| 1.3 光纤应变传感技术国内外研究现状 |
| 1.3.1 干涉型光纤应变传感器 |
| 1.3.2 光纤背向散射型应变传感器 |
| 1.3.3 光纤光栅型应变传感器 |
| 1.4 新型光纤光栅矢量应变传感器 |
| 1.5 论文研究内容和创新点 |
| 1.6 论文结构 |
| 第二章 FBG理论及制备方法 |
| 2.1 FBG耦合模理论 |
| 2.1.1 Bragg谐振条件 |
| 2.1.2 FBG耦合模理论 |
| 2.1.3 FBG反射率 |
| 2.1.4 FBG带宽 |
| 2.1.5 切趾FBG |
| 2.2 FBG的制备机理 |
| 2.2.1 光纤光敏特性 |
| 2.2.2 提高光纤的光敏性 |
| 2.2.3 飞秒激光制备FBG的机理 |
| 2.2.4 飞秒激光FBG折射率调制类型 |
| 2.3 FBG刻写方法 |
| 2.3.1 基于飞秒激光逐点法的FBG刻写技术 |
| 2.3.2 基于相位掩模板的FBG刻写技术 |
| 2.4 实验室制备FBG系统 |
| 2.4.1 实验平台 |
| 2.4.2 相位掩模板刻写FBG实验装置 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 基于少模FBG的弯曲(位移)传感器 |
| 3.1 少模FBG的制备及机理 |
| 3.1.1 少模光纤的种类 |
| 3.1.2 少模FBG的制备 |
| 3.1.3 传感器弯曲应变响应机理和FMF模式耦合 |
| 3.2 基于四模FBG的方向性识别弯曲(位移)传感器 |
| 3.2.1 四模对芯FBG的制备 |
| 3.2.2 弯曲(位移)及温度响应测量 |
| 3.3 基于两模离轴FBG的方向性识别弯曲(位移)传感器 |
| 3.3.1 两模离轴FBG的制备 |
| 3.3.2 弯曲(位移)及温度响应测量 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 光纤熔接点集成双FBG的高温应变传感器 |
| 4.1 熔接点集成双FBG的制备及机理 |
| 4.2 FBG温度应变响应机理 |
| 4.2.1 FBG温度传感特性 |
| 4.2.2 FBG轴向应变传感特性 |
| 4.2.3 FBG温度和应变双参量测量原理 |
| 4.3 熔接点集成双FBG的温度及应变传感特性实验研究 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 FBG压力传感器的封装结构设计及优化 |
| 5.1 膜片式FBG压力传感器的结构设计方案 |
| 5.1.1 膜片式FBG压力传感器的基本结构 |
| 5.1.2 高精度FBG压力传感器的关键技术指标 |
| 5.1.3 压力传感器封装结构设计方案 |
| 5.2 传感器膜片(受力面)的分析及结构优化制作 |
| 5.2.1 膜片(受力面)失效模式计算及模拟 |
| 5.2.2 封装结构优化 |
| 5.2.3 传感器的结构封装 |
| 5.3 压力响应测试及分析 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 问题和挑战 |
| 6.3 工作展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读博士学位期间取得的科研成果 |
| 作者简介 |
（4）基于离子辐照的晶体光波导有源器件及二维纳米材料改性研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| 英文摘要 |
| 符号说明 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 光波导结构及器件 |
| 1.2 二维纳米材料 |
| 1.3 离子辐照技术 |
| 1.4 论文的主要工作 |
| 参考文献 |
| 第二章 理论基础与研究方法 |
| 2.1 光波导基本理论 |
| 2.2 离子辐照制备晶体光波导 |
| 2.3 二维纳米材料基本理论 |
| 2.4 离子辐照改性二维纳米材料 |
| 2.5 实验与模拟方法 |
| 2.6 表征与分析技术 |
| 参考文献 |
| 第三章 碳离子辐照制备Er:MgO:SLN晶体波导放大器 |
| 3.1 碳离子辐照制备Er:MgO:SLN晶体波导结构及导波性质研究 |
| 3.2 碳离子辐照制备Er:MgO:SLN波导放大器的特性研究 |
| 参考文献 |
| 第四章 碳离子辐照制备Yb:YSGG晶体波导激光器 |
| 4.1 Yb:YSGG晶体条形波导连续波激光器 |
| 4.2 Yb:YSGG晶体条形波导调Q脉冲激光器 |
| 参考文献 |
| 第五章 Nd:YAG晶体脉冲波导激光 |
| 5.1 基于石墨烯的饱和吸收性质产生Nd:YAG脉冲波导激光 |
| 5.2 基于二氧化钒的饱和吸收性质产生Nd:YAG脉冲波导激光 |
| 参考文献 |
| 第六章 离子辐照调控二维纳米材料及其光学性质研究 |
| 6.1 氩离子辐照单层WS_2及其光学性质研究 |
| 6.2 碳离子辐照Graphene/WSe_2异质结及其在SERS中的应用研究 |
| 参考文献 |
| 第七章 总结与展望 |
| 7.1 总结 |
| 7.2 创新点 |
| 7.3 展望 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及获得的奖励 |
| 已发表论文 |
| 第一作者论文 |
| 其他作者论文 |
| 参加的国内及国际会议 |
| 获得的荣誉及奖励 |
| 致谢 |
| 附三篇已发表论文 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 |
（5）278nm全固态激光系统光学薄膜的研制（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题研究背景及意义 |
| 1.2 紫外光学薄膜的发展现状 |
| 1.3 课题主要研究内容 |
| 第2章 光学薄膜理论 |
| 2.1 光学薄膜基础理论 |
| 2.2 斜入射理论 |
| 2.3 薄膜光学损耗理论 |
| 2.4 多层膜电场强度分布理论 |
| 第3章 膜系设计 |
| 3.1 技术指标 |
| 3.2 薄膜材料特性研究 |
| 3.2.1 基底材料的选择 |
| 3.2.2 薄膜材料的选择 |
| 3.3 薄膜沉积工艺探究 |
| 3.3.1 基底温度和本底真空度的选择 |
| 3.3.2 金属铪工艺的探究 |
| 3.3.3 UV-SiO2工艺的探究 |
| 3.4 薄膜材料光学常数的拟合计算 |
| 3.5 膜系优化设计 |
| 3.5.1 倍频分离膜设计 |
| 3.5.2 高反膜设计 |
| 第4章 薄膜制备 |
| 4.1 镀膜设备简介 |
| 4.2 薄膜制备工艺探究 |
| 4.2.1 基底清洗工艺的探究 |
| 4.2.2 膜料预熔工艺的探究 |
| 4.2.3 膜厚监控方式的选择 |
| 4.2.4 离子辅助沉积参数的确定 |
| 第5章 薄膜的检测 |
| 5.1 光谱测试及分析 |
| 5.2 激光损伤测试 |
| 5.2.1 激光损伤阈值测试 |
| 5.2.2 激光损伤形貌观测 |
| 5.3 环境测试 |
| 第6章 总结 |
| 6.1 主要工作总结 |
| 6.2 创新点说明 |
| 6.3 不足与展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 |
| 致谢 |
（6）离子束表面改性提升熔石英激光损伤阈值的物理规律研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.2 熔石英的结构和性质 |
| 1.3 熔石英表面缺陷及其去除方法研究进展 |
| 1.3.1 诱导熔石英激光损伤的表面缺陷 |
| 1.3.1.1 吸收型缺陷 |
| 1.3.1.2 破碎型缺陷 |
| 1.3.1.3 结构型缺陷 |
| 1.3.2 熔石英表面缺陷的去除方法 |
| 1.3.2.1 HF酸刻蚀 |
| 1.3.2.2 磁流变抛光 |
| 1.3.2.3 等离子体刻蚀 |
| 1.3.2.4 激光预处理 |
| 1.3.3 离子束刻蚀国内外研究现状 |
| 1.4 熔石英表面应力及应力控制技术研究进展 |
| 1.4.1 概述 |
| 1.4.2 应力与负载能力的关系 |
| 1.4.3 应力控制技术 |
| 1.4.4 离子注入国内外研究现状 |
| 1.5 本论文主要研究内容 |
| 第二章 离子束表面改性及表征方法 |
| 2.1 离子束与材料的相互作用物理过程 |
| 2.2 SRIM程序和TRIDYN程序模拟 |
| 2.3 离子束刻蚀的特点及设备 |
| 2.4 离子注入的特点及设备 |
| 2.5 样品的表征方法 |
| 2.5.1 表面形貌表征 |
| 2.5.2 面型及粗糙度分析 |
| 2.5.3 刻蚀速率测试 |
| 2.5.4 表面及亚表面缺陷表征 |
| 2.5.5 光热弱吸收分析 |
| 2.5.6 表面成分分析 |
| 2.5.7 表面结构分析 |
| 2.5.8 力学性能测试 |
| 2.5.9 激光损伤性能测试 |
| 第三章 离子束刻蚀去除熔石英表面缺陷的参数优化 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验过程及样品表征 |
| 3.3 离子束参数对氩离子和离位损伤分布的影响 |
| 3.4 离子束参数对刻蚀速率和溅射产额的影响 |
| 3.5 离子束参数对熔石英表面质量的影响 |
| 3.6 离子束参数对熔石英激光损伤阈值的影响 |
| 3.7 本章小结 |
| 第四章 熔石英表面缺陷的去除特性及其对激光损伤阈值的影响 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验过程及样品的表征 |
| 4.3 缺陷及分子结构随刻蚀深度的演变规律 |
| 4.3.1 吸收型缺陷 |
| 4.3.2 破碎型缺陷 |
| 4.3.3 结构型缺陷 |
| 4.3.4 表面分子结构 |
| 4.4 激光损伤阈值随刻蚀深度的变化 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 复合刻蚀方法提升熔石英激光损伤阈值 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 实验过程及样品表征 |
| 5.3 复合刻蚀提升熔石英表面质量 |
| 5.3.1 破碎型缺陷的去除 |
| 5.3.2 粗糙度及面形的改善 |
| 5.3.3 吸收型缺陷的去除 |
| 5.3.4 结构型缺陷的去除 |
| 5.4 复合刻蚀提升激光损伤阈值 |
| 5.5 本章小结 |
| 第六章 不同种类离子注入熔石英的激光损伤行为研究 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 实验过程及样品表征 |
| 6.3 注入离子对熔石英表面结构和形貌的影响 |
| 6.3.1 离子深度轮廓和离位损伤分布 |
| 6.3.2 表面形貌及粗糙度变化 |
| 6.3.3 结构型缺陷分析 |
| 6.3.4 表面分子结构变化 |
| 6.4 注入离子对力学性能的影响 |
| 6.5 注入离子对激光损伤特性的影响 |
| 6.6 本章小结 |
| 第七章 氩离子注入增强熔石英表面及抗激光损伤性能 |
| 7.1 引言 |
| 7.2 实验过程及样品表征 |
| 7.3 氩离子能量对表面结构、力学及激光损伤特性的影响规律 |
| 7.3.1 氩离子和离位损伤分布 |
| 7.3.2 表面形貌及粗糙度 |
| 7.3.3 结构型缺陷 |
| 7.3.4 表面分子结构变化 |
| 7.3.5 力学性能 |
| 7.3.6 激光损伤性能 |
| 7.4 氩离子注量对表面结构、力学及激光损伤特性的影响规律 |
| 7.4.1 氩离子和离位损伤分布 |
| 7.4.2 表面形貌及粗糙度 |
| 7.4.3 结构型缺陷 |
| 7.4.4 表面分子结构变化 |
| 7.4.5 力学性能 |
| 7.4.6 激光损伤性能 |
| 7.5 本章小结 |
| 第八章 全文总结及展望 |
| 8.1 全文总结 |
| 8.2 创新点 |
| 8.3 展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 |
（7）冷轧圆盘剪表面强化工艺研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| ABSTRACT |
| 1.绪论 |
| 1.1 课题背景 |
| 1.2 圆盘剪的发展现状 |
| 1.3 圆盘剪表面改性技术的研究进展 |
| 1.4 磁控溅射镀膜技术的研究进展 |
| 1.5 激光淬火技术 |
| 1.5.1 激光淬火技术强化机理 |
| 1.5.2 激光淬火特点 |
| 1.5.3 激光淬火的主要参数及基本工艺 |
| 1.5.4 激光淬火技术的研究状况 |
| 1.6 本文研究意义与研究内容 |
| 2.实验方案 |
| 2.1 实验材料 |
| 2.1.1 基体材料 |
| 2.1.2 薄膜的制备工艺流程 |
| 2.2 实验设备 |
| 2.2.1 等离子增强磁场磁控溅射镀膜设备 |
| 2.2.2 激光设备 |
| 2.3 实验方法 |
| 2.3.1 磁控溅射实验 |
| 2.3.2 激光淬火实验 |
| 2.4 检测方法 |
| 2.4.1 XRD分析 |
| 2.4.2 薄膜微观组织分析 |
| 2.4.3 硬度测试 |
| 2.4.4 耐磨性能测试 |
| 3.冷轧圆盘剪表面氮化铬薄膜组织及性能研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 氮化铬薄膜组织观察及XRD分析 |
| 3.2.1 薄膜微观组织观察 |
| 3.2.2 薄膜XRD分析 |
| 3.3 氮化铬薄膜的性能测试 |
| 3.3.1 结合力测试 |
| 3.3.2 硬度测试 |
| 3.3.3 耐磨性测试 |
| 3.4 本章小结 |
| 4.冷轧圆盘剪表面激光淬火工艺研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 淬硬层微观组织观察 |
| 4.3 淬硬层性能测试 |
| 4.3.1 硬度测试 |
| 4.3.2 耐磨性测试 |
| 4.4 本章小结 |
| 5.结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简介 |
（8）血管靶向激光的特征和应用（论文提纲范文）
| 1 血管靶向激光技术与应用 |
| 1.1 氩激光 |
| 1.2 氪激光 |
| 1.3 铜蒸汽激光 |
| 1.4 二氧化碳激光 |
| 1.5 染料激光 |
| 1.6 Nd:YAG激光 |
| 1.7 KTP激光 |
| 1.8 Alexandrite激光 |
| 1.9 半导体激光 |
| 2 其它血管靶向相关光源和技术 |
| 2.1 强脉冲光 |
| 2.2 血管靶向光动力疗法 |
| 3 总结与展望 |
（9）我国光电子产业的技术选择及对策研究（论文提纲范文）
| 提要 |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 问题的提出和研究意义 |
| 1.1.1 问题的提出 |
| 1.1.2 研究意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 技术选择文献综述 |
| 1.2.2 适度技术的技术选择 |
| 1.2.3 国家关键技术选择的相关研究 |
| 1.3 论文主要内容及基本结构 |
| 1.4 研究的方法 |
| 1.5 本章小结 |
| 第2章 技术选择相关理论与方法综述 |
| 2.1 技术选择理论的基础 |
| 2.1.1 技术哲学理论 |
| 2.1.2 技术选择方法论 |
| 2.2 技术选择的相关理论 |
| 2.2.1 技术哲学的观点 |
| 2.2.2 技术预测 |
| 2.2.3 技术预见 |
| 2.2.4 技术轨道 |
| 2.2.5 技术跨越 |
| 2.2.6 技术路线图 |
| 2.3 灰度预测方法 |
| 2.3.1 灰色预测的概念简介 |
| 2.3.2 灰度关联度理论 |
| 2.3.3 灰度预测理论 |
| 2.3.4 模型检验 |
| 2.3.5 GM(1,1)残差模型及应用 |
| 2.3.6 适用性判别和分析 |
| 2.4 本章小结 |
| 第3章 技术选择的理论模型研究 |
| 3.1 产品和产业生命周期理论 |
| 3.1.1 产品生命周期曲线 |
| 3.1.2 产业生命周期理论 |
| 3.1.3 高技术产业生命周期各阶段的技术创新特征 |
| 3.2 生命周期理论的洛仑兹曲线模型 |
| 3.2.1 洛仑兹曲线 |
| 3.2.2 频度空间生命周期理论意义的讨论 |
| 3.3 技术发展模型及技术轨道转辙证明 |
| 3.3.1 逻辑斯蒂曲线模型及技术选择 |
| 3.3.2 技术选择中的技术轨道转辙 |
| 3.4 创新动态过程的瓶颈模型 |
| 3.4.1 A-U模型的量化说明 |
| 3.4.2 动态创新过程理论的模型 |
| 3.4.3 对动态创新过程理论的量化 |
| 3.4.4 创新动态模型的判据 |
| 3.4.5 判据的使用 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 技术选择的基本原则研究 |
| 4.1 技术选择的界定 |
| 4.2 技术选择的基本原则 |
| 4.3 技术选择的主体确定原则 |
| 4.4 技术选择的目标原则 |
| 4.4.1 企业层面的技术选择 |
| 4.4.2 产业方面的技术选择 |
| 4.4.3 国家层面的技术选择 |
| 4.5 国家关键技术选择的原则 |
| 4.6 高技术产业的技术选择原则 |
| 4.6.1 高技术产业技术选择的特性 |
| 4.6.2 高新产业技术发展的准则 |
| 4.6.3 竞争理论上的高新产业技术选择原则的设计 |
| 4.7 本章小结 |
| 第5章 高新技术产业技术选择的指标体系 |
| 5.1 传统技术选择理论剖析 |
| 5.1.1 经典技术选择理论 |
| 5.1.2 传统技术选择理论的本质 |
| 5.2 基于技术选择的高新产业中高技术的本质特征 |
| 5.2.1 高技术的本质特征 |
| 5.2.2 高新技术产业的界定及特点 |
| 5.2.3 光电子产业的高技术特征 |
| 5.3 高技术产业技术选择指标体系 |
| 5.3.1 高技术产业技术选择的新视角 |
| 5.3.2 新视角下的高新产业技术选择指导原则 |
| 5.3.3 新视角下的高新技术产业技术选择指标体系 |
| 5.4 本章小结 |
| 第6章 国内外光电子技术产业发展现状分析 |
| 6.1 光电子技术产业概况 |
| 6.1.1 光电子技术产业简介 |
| 6.1.2 光电子产业产品构成 |
| 6.2 国外光电子技术产业发展概况 |
| 6.2.1 国外光电子产业经济规模 |
| 6.2.2 国外光电子产业产品构成分析 |
| 6.2.3 光电子产业总体发展趋势分析 |
| 6.3 我国光电子产业发展现状 |
| 6.3.1 吉林省光电子产业现状及发展 |
| 6.3.2 我国光电子产业总体发展形势 |
| 6.4 我国光电子技术产业发展的主要问题分析 |
| 6.4.1 国内外光电子产业发展趋势概述 |
| 6.4.2 我国光电子产业技术状况分析 |
| 6.4.3 我国光电子产业基础分析 |
| 6.4.4 我国光电子产业发展存在的主要问题 |
| 6.5 本章小结 |
| 第7章 我国光电子产业技术选择方案设计 |
| 7.1 光电子产业技术选择的总体思路 |
| 7.2 国外光产业技术发展路线概述 |
| 7.2.1 产业关键产品技术 |
| 7.2.2 产业关键工艺技术 |
| 7.2.3 国外光产业技术发展趋势 |
| 7.3 光电子产业技术轨道特征分析 |
| 7.3.1 光电子产品构成比的关联度分析 |
| 7.3.2 光电子产品构成比的聚类分析 |
| 7.3.3 光电子产品构成比的因子分析 |
| 7.4 激光技术发展轨道的理论分析 |
| 7.4.1 1997-2005 年全球激光产品的统计分析 |
| 7.4.2 固体激光技术轨道转辙的分析 |
| 7.5 激光技术创新动态过程分析 |
| 7.5.1 激光产品的聚类分析 |
| 7.5.2 激光产品的主成分因子分析 |
| 7.6 我国光电子技术产业的技术选择 |
| 7.6.1 根据文献对光电子技术发展的评价与分析 |
| 7.6.2 我国光电产业技术选择的方案 |
| 7.7 本章小结 |
| 第8章 我国光电子产业关键技术选择与发展对策 |
| 8.1 国家关键技术选择的准则 |
| 8.2 日本制定的光存储技术路线图的启示 |
| 8.3 国家总体战略目标下的关键技术选择 |
| 8.4 激光关键技术及选择 |
| 8.4.1 激光制造和加工技术 |
| 8.4.2 激光医疗技术 |
| 8.4.3 光通信技术 |
| 8.5 液晶显示领域关键技术及选择 |
| 8.6 LED关键技术及选择 |
| 8.7 太阳能关键技术及选择 |
| 8.8 我国光电子技术发展对策研究 |
| 8.9 本章小结 |
| 第9章 研究结论与研究展望 |
| 9.1 研究工作总结 |
| 9.2 未来研究展望 |
| 9.3 结束语 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录1 Mathcad2000 计算灰色关联度程序 |
| 附录2 Mathcad2000 计算GM(1,1)残差预测模型程序 |
| 附录3 Mathcad2000 计算模型误差检验程序 |
| 附录4 2003 年和2004 年激光器构成比汇总表 |
| 攻读博士学位期间取得的主要科研成果 |
| 摘要 |
| Abstract |
四、新技术冲击氩离子激光器（论文参考文献）
- [1]玻璃表面处理综述[J]. 王琦,万法琦,赵会峰,熊春荣,文峰,姜宏. 材料科学与工程学报, 2021
- [2]激光支持吸收波二元等离子体的时空演化研究[D]. 赵洋. 山西大学, 2021(01)
- [3]新型高精度光纤光栅应变传感技术研究[D]. 苏丹. 西北大学, 2020
- [4]基于离子辐照的晶体光波导有源器件及二维纳米材料改性研究[D]. 马利男. 山东大学, 2020
- [5]278nm全固态激光系统光学薄膜的研制[D]. 陈成. 长春理工大学, 2020(01)
- [6]离子束表面改性提升熔石英激光损伤阈值的物理规律研究[D]. 黎波. 电子科技大学, 2019(04)
- [7]冷轧圆盘剪表面强化工艺研究[D]. 李世新. 辽宁科技大学, 2019(01)
- [8]血管靶向激光的特征和应用[J]. 邹淑玲,黄秋艳,王玉芝,苑凯华,黄正. 激光生物学报, 2018(05)
- [9]我国光电子产业的技术选择及对策研究[D]. 王希军. 吉林大学, 2006(05)
- [10]消费应用促进非二极管激光器市场的增长[J]. 吕丹丹. 光机电信息, 2005(07)